徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200

徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200概述

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并加强二次电子或背散射电子信号，获得更高的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200性能

• • 重现结果：运行自动化的进程，并协助参数设置

• • 小巧紧凑：设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间

• • 容易清洗：具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台

• • 操作简便：直观的触摸屏和一键式操作

徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200技术参数