Sievers InnovOx在线总有机碳TOC分析仪
Sievers InnovOx ES实验室总有机碳TOC分析仪
Sievers M500e在线TOC分析仪
总有机碳(TOC)分析仪
Sievers M500在线TOC分析仪
技术参数:
检测范围:0.05 to 1,000 ppb C
精确度:The greater of < 1% RSD or 0.05 ppb for on- line measurements (20-40 °C or 68-104 °F);
3.0% RSD at 500 ppb for grab samples
分析模式:在线平均或在线定时;离线抓样(个别采样)
分析时间:在线15秒/离线抓样10分钟
TOC校准稳定性:6个月校准一次
Range TOC 电导耐受范围:最大1.4 S/cm (0.7 MΩ-cm)的二氧化碳
电导率/电阻
电导率精确度:± 0.5% RSD (20-40 °C or 68-104 °F)
电导率准确度:± 2.0%
电导率校准周期:6个月
检测器指标
在线适宜压力范围:15-100 psi
低压样品分析:分析时,不能高于样品0.70m
要求在线样品流速:每分钟(大于)60毫升
电源:100-240 ± 10% 伏特, 60 W, 50/60 Hz, 或者专用电池
温度:样品: 10-90 °C;环境: 10-40 °C
常规使用环境:室内
输出:选配I/O接口板:以太网、2路模拟输出、2路警报输、平行输入
安装/过载类别:2级
尺寸:高:25.40厘米;宽:30.48厘米;深:15.24厘米
加装小瓶取样装置后的尺寸:H高: 25.40 cm (10.0 in); W宽: 34.87 cm (13.7 in); D深: 15.24 cm (6 in)
重量:2.9公斤(无电池);3.58公斤(有电池)
小瓶取样装置重量:0.6公斤
安全认证:CE, ETL listed. Conforms to UL Std. 61010-1. Certified to CSA C22.2 No. 61010-1.
配置:电池和充电器/数据接口板/小瓶取样装置/离线、在线进样管线
主要特点:
1.全天候、随时随处可以用于PW / WFI检测
2.3.6公斤超轻便
3.唯 一一款双电源TOC仪器/电池可以支持5小时
4.15秒快速检测
5.在线/离线两用
6.U盘、网线、警报输出输入
7.低维护费用,只需更换紫外灯、泵管
报价:面议
已咨询2401次TOC分析仪
报价:面议
已咨询5180次总有机碳TOC分析仪
报价:面议
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报价:¥55000
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已咨询444次纯化水注射用水总有机碳浓度在线监测
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已咨询178次纯化水注射用水总有机碳浓度在线监测
山东优云谱光电科技有限公司是燃烧法总有机碳分析仪YP-TOC3专业生产厂家,多年仪器生产经验,燃烧法总有机碳分析仪型号齐全,检测精度高,欢迎来电咨询!
电导率法TOC测量仪 符合《中国药典》2010版附录 VIII R制药用水中总有机碳测定法,满足药典对仪器的要求:①TOC=TC-TIC,②系统适用性试验,③检测灵敏度(等于或小于0.001mg/L)。
注射用水TOC(总有机碳)分析仪 产品使用电导率差值检测技术,检测精度高,响应时间短。产品符合国家法规和标准,可满足制药用水、注射用水、超纯水和去离子水的在线及离线的检测要求。
高纯水中总有机碳分析仪离线检测和在线检测可选配。精 度:±4% 测试范围小巧、轻便,进行样品测试时无需人员值守。
清洁验证总有机碳TOC分析仪量程:0~50mg/L 或0~5000mg/L。 重复性:3 % 响应时间:7~15分钟
总有机碳在线TOC分析仪1、高精度、高灵敏度,操作简单。 2、人性化操作界面,有一键运行功能,自动管路清洗功能。 3、高性能CPU,触摸屏设计,超大640*480点阵真彩显示器。 4、不用拆开机箱更换UV灯和泵管。 5、检测上限可设定,自动上限报警功能。 6、具有RS232数据接口,历史数据可存储6个月。 7、离线检测和在线检测可选配。
注射用水在线TOC监测仪注射用水在线TOC分析仪测试时间:4min环境温度:(10-60)℃样品温度:(1-99)℃ 注射用水在线TOC分析仪电源:(100-240)VAC 50/60Hz 功率:100W 示值误差:±3% 重复性:RSD≤3% 检测范围:(0-1600.0)μg/L 水样要求电导率范围:(0-5)μS/cm@25℃ 样品温度:(1-95)℃ 环境温度:(10-60)℃ 信号输出: 485:4-20mA。
纯水离线总有机碳toc分析仪注射用水在线TOC分析仪1、检测制药工业中纯化水、注射用水和高纯水中总有机碳的浓度2、半导体行业、电厂、科研单位、制药行业、化工行业等超纯水TOC的检测3、在线监测制药工业的制水系统、半导体工业的超纯水制备系统和晶片工艺过程.