用于SEM / FIB / EBSD的950 °C原位加热台-Murano 525

产品功能介绍
　　在扫描电镜中对样品加热在许多材料科学研究中已经成了一项必不可少的手段，使用扫描电镜原位加热台可以进行动态地观察温度变化过程中的材料微观变化及失效分析。如今被广泛应用于金属材料、液晶检测、半导体、高分子材料、流体包裹体、生物工程等众多领域。Murano 525 原位加热台能够使我们动态地观察样品在加热过程中的相变、再结晶、晶粒生长与氧化现象。

技术特点：
　　Murano加热台精悍紧凑，能方便地与大多数扫描电镜的标准样品台接口，它包含一个绝热接口，适用于二次电子像、电子背散射衍射（EBSD）与聚焦离子束（FIB）加工。能够对大至9mm x 4.5mm x 1.5mm大小的样品进行快速加热。独特的设计使得该加热台可以方便地用于EBSD的几何配置，同时保持适当的工作距离。样品台的温度范围涵盖室温到 950℃。要进行催化、还原或氧化反应，可选配一个毗邻样品的毛细管，进行气体注入。通过毛细管的外部气体流量用法兰上的针阀来控制。水冷底座确保对SEM的保护，可更换的热屏蔽罩允许进行常规成像或EBSD分析，基于软件的温度控制器能实现精确的温度控制和记录。积分偏压能够甄别二次电子和热发射电子，从而提高在高温下的成像质量。

本图显示从945°C  到880°C  奥氏体向铁素体转变的EBSD相分布图，奥氏体为蓝色（暗），铁素体为红色（亮）。测试仅用了一个低碳钢试样，加热到945°C，然后以每分钟1 °C的速度冷却，直到观察到相变开始。一旦相变开始，保温以观察单个晶粒中相的变化过程，然后再次冷却。数据由OxfordInstruments的Singh Ubhi博士提供。
Murano  525原位加热台突出技术优势:
1、能够对大至数毫米的样品快速地加热和冷却 (> 100 °C / 分钟)
2、紧凑的尺寸允许 EBSD 所需的大角度倾斜，方便装置的插入和取出
3、可进行高温下局部气体反应的研究
4、温度精度<±0.5°C，稳定性< 1°C /小时
5、配置水冷模块，有效保护 SEM 舱室，安全地实现 950°C 的样品温度
6、对每款SEM而定制，方便安装/拆卸，在几分钟内即可把SEM样品台恢复到正常状态
7、新的基于PC的温度控器，实现精确控制能够同步EBSD的面分布与温度曲线

基于PC的温度控器

技术参数：
1、工作距离：带屏蔽的工作距离 10mm，无屏蔽的工作距离 12.5 mm
2、样品大小：X 4.5mm，Y 9mm,Z(带屏蔽)1.5mm, (无屏蔽)3mm
3、温度稳定度： ±0.5℃
4、控温精度：±0.5℃
5、温度范围：950℃
6、图像控制系统：DigiScanSEM数字电子束控制与图像处理系统
7、保护措施：带有热量屏蔽装置，对物镜和样品仓不产生明显的热影响，允许进行常规成像或EBSD分析
8、结构：结构紧凑，方便安装和取出，可以方便地用于EBSD的几何配置，同时保持适当的工作距离
9、温度控制：PID自动控制和手动控制两种模式，可存储所有的加热参数，独立软件控制，可以实现同步EBSD的面分布与温度曲线

应用领域：
EBSD原位分析
金属材料
石油地质岩石矿物
光电材料
化工高分子材料
新能源电池材料
半导体