刻线衍射光栅，MIR反射式

特性

· 设计波长：3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm

· 设计波长处的偏振效率：80%到95%

· 低重影：小于主反射的0.5%

· 反射铝膜

· Pyrex基底，75到450刻线/mm

· 使用刻线的基底材料生产

· 损伤阈值：

o 连续波激光：250 W/cm2

o 脉冲激光器：3.5 J/cm2 (200 ns脉冲)

QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅，适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异，请点击上方光栅指南标签。

这些光栅用于在常见分子激光波长下获得峰值偏振效率，因此与标准的刻划衍射光栅(紫外、可见和近红外刻划光栅)不同。对于这些光栅，凹槽闪耀角不等同于Littrow配置角，后者优化了光栅效率，用于非偏振光。因此，Littrow配置的反射光栅的标准公式也不再适用。

请注意，这些光栅的反射铝膜是裸露的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供保护性；详情请咨询技术支持。

注意

光栅很容易被潮湿、指纹、气溶胶或任意摩擦材料的轻微接触而损伤。光栅只能在必要时才拿取，而且只能通过边缘夹持。应佩戴橡胶手套或类似的防护套，以防止手指上的油污接触光栅表面。清洁时只能使用净化的干燥空气或氮气吹扫光栅，其它任何操作都是不允许的。溶剂很可能会损伤光栅表面。

反射式衍射光栅，设计波长3.1 µm

反射式衍射光栅，设计波长3.5 µm

 反射式衍射光栅，设计波长10.6 µm