BENEQ 原子层沉积系统 TFS 500

BENEQ原子层沉积系统ALD  TFS 500

BENEQ ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。

BENEQ ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在yi起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间zui少，市场拥有成本zui低。我们专有的Picoflow™扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。

BENEQ ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的，例如机械零件，钟表零件和珠宝，镜片，光学元件和医疗设备，外科植入物和植入物的涂层设备（PicoMEDICAL™解决方案）。该系统速度快，可靠性高且易于维护。