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PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机
品牌:沈阳科晶
型号:PTL-OV6P
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GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:GSL-1100X-SPC-12
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MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统
品牌:沈阳科晶
型号:MSK-NFES-4
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全自动原子层沉积系统(ALD)
品牌:美国Veeco
型号:Firebird
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中式狭缝涂布机
品牌:韩国DCN
型号:无
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徕卡显微系统美国MVSystems奥匹维特北京博远微纳美国Trion美国ANRIC美国AGS Plasma上海实贝美国VAC美国Gatan英国Cressington德国普发真空美国泰德派勒沈阳科晶韩国ECOPIA上海三研美国Denton Vacuum白罗斯MTM美国Veeco 英国Ossila北京莱普特日本Advance Riko英国HHV法国Plassys日本SDI牛津仪器英国Oxford Vacuum丹麦Stensborg上海埃飞北京维意韩国DCN德国relyon plasma美国Rocky Mountain英国Agar Scientific上海程造瑞典Obducat德国布鲁克美国化仪深圳科时达美国那诺-马斯特郑州科探成都超迈光电
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低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM AC
- 产地:德国
低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200
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Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机
- 品牌:北京莱普特
- 型号: Easy-200
- 产地:海淀区
产品介绍:Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机是一款通过热封各种专用热封膜来防止各种微孔板(PCR板、深孔贮存板、酶标板以及细胞培养板)在检测过程中的蒸发、泄漏引起的样品损失及空间交叉污染的封膜仪器。该机外观设计简洁大方,操作简单,封板压力灵活可调,标准板到深孔板皆可适用,适用板类范围更广。封板温度和封板时间都可灵活设置,快速加热,实时显示封板的温度。适用普通胶封膜、热封膜、可穿刺热封膜、光学热封膜(定量PCR)、热封膜。替代手工封膜,保证封板牢固,密封操作自动化,均匀的压力保证封膜效果均匀一致。
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粉末原子层沉积系统ALD
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Angstrom-dep
- 产地:美国
原子层沉积系统 Atomic Layer Deposition System 产地:美国Angstrom; 型号:Angstrom Dep II, Angstrom Dep III; 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术,它可以沉积均匀一致、厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术,其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。
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美国 NBM PLD脉冲激光沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PLD-300
- 产地:美国
脉冲激光沉积系统-PLD 型号:AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Firebird
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。Firebird Batc
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金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V HP
- 产地:美国
产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&
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Obducat纳米压印EITRE® 3
- 品牌:瑞典Obducat
- 型号: EITRE®
- 产地:瑞典
纳米压印技术NIL(NanoImprint Lithography technology)类似于古代的印章,是一项图形转移和复制技术。1995年,普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授通过机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制了模版上的纳米图案,其加工分辨率只与模版图案尺寸有关,而不受光刻最短曝光波长的物理限制,由此引出纳米压印技术。
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德国布劳恩 真空蒸镀系统MINIvap
- 品牌:深圳科时达
- 型号: MINIvap
- 产地:德国
可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)· 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板· 紧凑型设计· 低成本、经
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德国布劳恩 真空蒸镀系统UNIvap
- 品牌:深圳科时达
- 型号: UNIvap
- 产地:德国
· 可单独使用· 紧凑型设计· 经济型解决方案· &nbs
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瑞士Safematic 高真空涂层镀膜系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: CCU-010
- 产地:瑞士
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SemDex A32型全自动晶圆厚度检测系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: SemDex A32
- 产地:德国
产品特点: - 兼容4,6,8,12寸样品; - 所有检测数据,一步同时完成测量; - 可在一台仪器上搭配不同技术的测量探头,用于测量晶圆的厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度,3D形貌,TSV,关键尺寸,粗糙度等参数。 - 符合SEMI S2和S8标准; - 最多可加载4个8寸片Load Port或者3个12寸片Load Port; - 两个可翻转的机械手臂,吞吐量最高达100 wafers /h; - 旋转台用于晶圆全尺寸快速测量; - SECS/GEM软件包,可以根据用户提供定制化需要; - 用户界面友好的WaferSpect 软件; 选配件 1、真空吸盘; 2、高分辨率HD CMOS相机及图像识别的软件; 3、集成OCR、条形码或QR码识别的摄像头; 4、区分不同Cassette类型的阅读信息板; 5、通过测试数据自动进行分拣 应用行业: - 化合物半导体:研磨芯片厚度控制GaAs,InP, SiC,GaN - 硅基器件前段:功率器件,MEMS,射频MEMS - 硅基器件后段:8”和12”的封装及bumping线,TSV(硅通孔技术) - LED:可用作检测蓝宝石或碳化硅片厚度及TTV - 光通讯:石英材料类
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徕卡 EM ACE600 高真空镀膜机
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EMACE600
- 产地:德国
Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于高分辨率分析。
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ETD-100AF 热蒸发镀膜机
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-100AF
- 产地:
仪器简介:原理:ETD-100AF 是高真空热蒸发式小型镀膜机。采用电阻式蒸发原理,利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料,使其在高真空下蒸发,沉积在被镀样品上以获得**镀膜效果。适用范围: 电子显微镜样品制备和清洁光栏,以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。技术参数:配置和参数:* 真空室: 直径230mm,高度:280mm * 靶材料: 碳、金等。 * 电极(两对): 一对用于钼舟或钨丝栏,一对蒸碳。 * 最大电流: 100A * 最大电压: 10V * 极限真空: 1×10 Pa *
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PECVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS-PECVD
- 产地:美国
薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项ZL,包括:多腔室PECVD沉积系统 主要产
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ACE真空镀膜仪
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: EM ACE200
- 产地:德国
Leica EM ACE 镀膜仪 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶,它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求,从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜. 样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。 Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。全自
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狭缝挤出型涂布机
- 品牌:韩国DCN
- 型号: Slot Die Coater
- 产地:韩国
适用于高精度大面积表面涂布,平板型或 卷对卷涂布
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伯东普发Pfeiffer氦质谱检漏仪ASM 340
- 品牌:德国普发真空
- 型号: ASM 340
- 产地:法国
伯东公司授权代理德国普发 Pfeiffer 新款高性能坚固耐用氦质谱检漏仪 ASM 340,可靠的品质保证广泛的市场应用,此款氦质谱检漏仪适用于工业、分析研究、镀膜市场等。此款氦质谱检漏仪坚固耐用,抗震性能极强,可反复使用数年仍保证高精度的检漏漏率。氦质谱检漏仪紧凑的设计适合串列生产和持续工作。此款是 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 HLT 560全新升级款。同系列无油干式氦质谱检漏仪 ASM 340D(前级泵配备无油干泵)同步上市氦质谱检漏仪 ASM 340 主要特点1.前级泵配备抽速高达15 m3/h
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化仪 HL 200/201热贴合机 镀膜机
- 品牌:美国化仪
- 型号: HL 200/201
- 产地:美国
热轧层压机足够紧凑,可以放置在实验室工作台上,但又足够耐用,可以始终如一地复制准备用于测试或小规模生产的热层压产品样品。通过灵活的控制,热辊层压机可以层压多种材料,包括纸张,薄膜,箔纸和许多其他材料。加热层压系统的用途非常广泛,可以进行多种变化的修改。
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磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-4000
- 产地:美国
先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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量产型卷对卷狭缝涂布机
- 品牌:韩国DCN
- 型号: 无
- 产地:韩国
※ 主要应用于平板显示(LCD、OLED、QLED)、柔性显 示、触摸屏工艺、太阳能光伏、电池工艺、智能化玻璃、 柔性印刷电子、纸张涂布、半导体封装等领域。 ※ 实验室小型中试线,Slot Die或Micro Gravure功能集 成。 ※ 涂膜宽度150到300mm可选。 ※ 可选功能Hot Air Dryer、 IR Heater、UV Cure及 Laminator。
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中式狭缝涂布机
- 品牌:韩国DCN
- 型号: 无
- 产地:韩国
※ 主要应用于平板显示(LCD、OLED、QLED)、柔性显 示、触摸屏工艺、太阳能光伏、电池工艺、智能化玻璃、 柔性印刷电子、纸张涂布、半导体封装等领域。 ※ 全自动多功能集成系统, 速度:0.01 ~ 200 mm/s。 ※ 涂膜面积:180 x 250mm 和370 x 470mm。 ※ 优异的涂膜均匀性,材料适用范围广泛。
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研发型狭缝涂布机
- 品牌:韩国DCN
- 型号: 无
- 产地:韩国
※ 主要应用于平板显示(LCD、OLED、QLED)、柔性显 示、触摸屏工艺、太阳能光伏、电池工艺、智能化玻璃、 柔性印刷电子、纸张涂布、半导体封装等领域。 ※ 高精度研发级,速度:1 ~ 50 mm/s。 ※ 涂膜面积:150 x 150mm和250 x 250mm。 ※ 优异的涂膜均匀性,材料适用范围广泛。
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多功能镀膜系统
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: DGN
- 产地:美国
多功能镀膜系统,适用于科学研究,技术开发,占地空间小,适应性强
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派瑞林镀膜设备
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: PRL
- 产地:美国
派瑞林镀膜设备
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沉积用等离子体
- 品牌:德国relyon plasma
- 型号: plasma deposition
- 产地:德国
大气压等离子体纳米涂布及沉积 无需真空环境,在大气压下进行涂布、沉积。
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AP-MTE1小型热蒸发镀膜机
- 品牌:韩国ECOPIA
- 型号: AP-MTE1
- 产地:韩国
Ecopia科研用小型热蒸发镀膜机 - 极高性价比!型号:AP-MTE1产地:韩国原装进口仪器特点:1/ 沉积材料:金属;2/ 膜厚均匀性:≤ ± 5 % (4英寸基底);3/ 沉积方式:热蒸发舟;4/ 极限真空:5.0 x 10 -6 Torr;技术规格:1/ 最大样品尺寸:4英寸;2/ 基底旋转:0~10rpm;3/ 不锈钢腔体,ID250 x H300 mm;4/ 真空泵:机械泵,150L/Min;扩散泵,215L/Sec;5/ 薄膜厚度监控:石英振荡传感器实时厚度控制;6/ 厚度精度:0.5%;7
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AP-MMS1小型磁控溅射镀膜机
- 品牌:韩国ECOPIA
- 型号: AP-MMS1
- 产地:韩国
Ecopia科研用小型磁控溅射镀膜机 - 极高性价比!型号:AP-MMS1产地:韩国原装进口仪器特点:1/ 沉积材料:金属;2/ 膜厚均匀性:≤ ± 5 % (4英寸基底);3/ 沉积方式:直流磁控溅射;4/ 极限真空:1.0 x 10 -3 Torr;技术规格:1/ 最大样品尺寸:4英寸;2/ 基底旋转:0~10rpm;3/ 不锈钢腔体,ID250 x H300 mm;4/ 真空泵:机械泵,150L/Min;5/ 靶枪:2英寸直径 (选配:3英寸);6/ 直流电源:2KW(800V - 2.5A);7/
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伯东公司真空镀膜机
- 品牌:德国普发真空
- 型号: pfeiffer classic系列
- 产地:德国
伯东公司德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机(高真空镀膜系统)经过大量实验和技术知识积累研发设计主要应用领域: 光学,微电子学,显示屏,光电工程,生物医学工程等行业.价格电议:021-50463511Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(低成本实验室系统,用于开发研究)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(的镀膜机,用于系统研
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682.400斜面切割工具
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 682.400
- 产地:美国
仪器简介:可选配斜面切割工具 型号682.40000斜面切割工具(SC-Tool)- 提供均质/非均质材料横截面可组合切割并最小化减少其机械变形或损坏。 规格: 离子源 离子枪 一个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 5mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子
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精密刻蚀镀膜仪
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 682
- 产地:美国
仪器简介:型号682精密刻蚀镀膜仪(PECS) 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS是一台理想的具有斜面切割,样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器,其刻蚀和溅射镀膜系统中duyi无二的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM)以及光学显微镜(LM)的需求。PECS中duyi无二的设计结构使其成为非常通用的仪器,可选配型号682.40000的斜面切割工具,它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数:规格:
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HMDS真空镀膜机
- 品牌:上海实贝
- 型号: HMDS-090-DM
- 产地:
HMDS真空镀膜机一、HMDS真空镀膜机的预处理系统的重要性在半导体生产工艺中,光刻是至关重要的一个工艺环节,而涂胶工艺的好坏,直接影响到光刻的质量,所以涂胶也显得尤为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节有一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中,所用到的光刻胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果和显影。为了解决这一问题,涂胶工艺中引
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Bench-Top Plasma Tool
- 品牌:美国AGS Plasma
- 型号: AGS TT-RIE/CVD/PECVD
- 产地:美国
AGS Plasma Systems, Inc.Now Celebrating Our 25th year! 美国AGS公司成立于1991年,在等离子系统领域已有25年的历程,是一家历史悠久的等离子系统供应商,提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积,刻蚀,如微电子,MEMS,光伏,光电,纳米科技等行业领域。2012年Semicon West ,AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150RIE/CVD 系统,非常经济实用,对世界各地大学,研究所来说这样如此特色的RIE和CVD应用是非常wan美
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AT-400 原子层沉积
- 品牌:美国ANRIC
- 型号: AT-400
- 产地:美国
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
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PECVD沉积
- 品牌:美国Trion
- 型号: Minilock-Orion III PECVD
- 产地:美国
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套zuixianjin的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该
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热丝CVD设备HWCVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS
- 产地:美国
热丝薄膜沉积设备MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。作为设备销售的一部分,我们还能向用户保证薄膜半导体材料具有*
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郑科探小型高温蒸镀仪镀膜仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
小型高温蒸镀仪,钨舟加热,或者坩埚加热,温度可达1800度,带样品台旋转功能,使镀膜更加均匀。
- 镀膜机
- 仪器网导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选镀膜机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。