仪器网（yiqi.com）欢迎您！

| 注册2 登录
网站首页-资讯-话题-产品-评测-品牌库-供应商-展会-招标-采购-知识-技术-社区-资料-方案-产品库-视频

应用方案

仪器网/ 应用方案/ 化学机械抛光/平面化（CMP）

立即扫码咨询

联系方式：400-829-3090

联系我们时请说明在仪器网（www.yiqi.com）上看到的!

扫    码    分   享

       新的FX 传感器使用聚集光束来减少检查的总体积，从而提高了传感器的浓度限制，通常允许在不稀释的情况下进行测量。FX 传感器测量粒子0.65μm- 20 μm 标准200 倍浓度消光或散射传感器。结果可以显示在多达512 个大小通道。


相关产品

参与评论

全部评论(0条)

推荐方案

化学机械抛光/平面化（CMP）
原液高浓度Zeta电位分析仪用于化学机械抛光（CMP）过程中颗粒电荷对材料去除率影响的检测
CMP 过滤效率
CMP Slurry 过滤试验
CMP 浆液过滤测试
表面波探测中CMP分析
CPS在CMP中的应用
CMP 浆料的快速稳定性研究
分析CMP Slurry 中的大颗粒
CMP Slurry均一性的一体化解决方案
纳米颗粒在化学机械抛光浆中用于半导体工业可能的好处表征方法
利用激光衍射测量研磨液(CMP Slurry)
CMP 研磨液中颗粒的评价技术
【ALP-TS-23003A】CMP Slurry均一性的一体化解决方案
CD ZetaProbe应用：CMP抛光液的Zeta电位测量
本文选用了Colloidal Dynamics公司的ZetaProbe电位分析仪测量了不同配方的氧化铈浆料的Zeta电位，测试快速且重复性好。
SPOS技术在半导体CMP制程中的应用
SPOS 技术在半导体CMP 制程中的应用
【ALP-TS-23003A】CMP Slurry均一性的一体化解决方案（上）
【ALP-TS-23003A】CMP Slurry均一性的一体化解决方案 （精简版）
CMP 浆体粒径分析：SPOS 与费朗霍夫
内容节点
概述
实验/设备条件
样品提取
实验/操作方法
实验结果/结论
仪器/耗材清单

相关解决方案

在线留言

上传文档或图片,大小不超过10M
换一张？
取消

联系我们

400-822-6768 （周一至周五 09:00 ~ 18:00）

服务咨询：932545765

采购服务：2508277101

展会合作：784540580

综合服务：11694366

关注我们

  • 关注微信公众号

  • 微信小程序

沪公网安备 31011502008050号沪公网安备 31011502008050号| ICP备案号：沪ICP备16012899| 互联网药品信息服务资格证书| 广播电视节目经营许可证| 营业执照证书
Copyright 2004-2026 yiqi.com    All Rights Reserved , 未经书面授权 , 页面内容不得以任何形式进行复制