FIB-SEM双束电镜应用之Xe等离子快速切割技术

Xe等离子FIB能够实现微纳米，甚至毫米级的快速加工。Xe等离子FIB的zui大束流为2μA，另外Xe离子的原子量更大，对纯Si的溅射效率比Ga离子约高30%。虽然Xe离子的溅射效率高，但是由于Xe离子的直径较大，Xe等离子束加工样品时产生的注入效应和损伤要比Ga离子束小。