
- 2025-01-10 10:53:54掩模板清洗设备
- 掩模板清洗设备是半导体制造中不可或缺的关键设备,它采用先进的清洗技术和精密的控制系统,能够高效去除掩模板表面的颗粒、有机物等污染物,确保掩模板的清洁度和完整性。该设备具备高自动化、高稳定性和易于维护的特点,支持多种清洗模式和工艺参数设置,适用于不同尺寸和类型的掩模板清洗需求。掩模板清洗设备的优异性能和稳定表现,对于提高半导体器件的生产良率和制造过程的可靠性具有重要意义。
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- 掩模板清洗机的工作原理
- 掩模板清洗机通过兆声技术和化学试剂的协同作用,实现了对掩模板上污染物的高效去除,从而提高了半导体制造过程中的光刻精度和产品质量
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掩模板清洗设备问答
- 2022-10-13 16:33:56NE-PE02纳恩科技真空等离子清洗设备
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- 2023-06-14 16:49:45无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究,意大利
- 期刊:ACS NanoIF:18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一种典型的二维材料,也是电子器件的重要组成部分。研究者发现,当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用,使之具有良好的电学特性,可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而,MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点,不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外,电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响,进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能,但这些研究主要基于理论计算,缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。 【成果简介】 2021年,意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件,在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性,发现在n通道的跨导输运被抑制,这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。 本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版,可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便,同时其还具备结构紧凑(70cm X 70cm X 70cm)、高直写速度,高分辨率(XY:
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- 2023-06-29 10:11:54无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究,意大利科学家揭秘其机理!
- 期刊:ACS NanoIF:18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一种典型的二维材料,也是电子器件的重要组成部分。研究者发现,当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用,使之具有良好的电学特性,可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而,MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点,不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外,电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响,进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能,但这些研究主要基于理论计算,缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。成果简介2021年,意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件,在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性,发现在n通道的跨导输运被抑 制,这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第 一性原理计算发现这一独特的输运抑 制现象与硫空位相关。本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版,可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便,同时其还具备结构紧凑(70cm X 70cm X 70cm)、高直写速度,高分辨率(XY:
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- 2023-08-10 14:19:11高内相乳液模板法制备聚合物基多孔碳及其电化学性能的研究
- HS-STA-002同步热分析仪将热重分析 TG 与差示扫描量热 DSC 结合为一体,在同一次测量中利用同一样品可同步得到热重与差热信息。高内相乳液模板法制备聚合物基多孔碳及其电化学性能的研究【福州大学 张静】高内相乳液模板法制备聚合物基多孔碳及其电化学性能的研究上海和晟 HS-STA-002 同步热分析仪
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- 2020-10-12 17:13:01线性等离子清洗设备,plasma 清洗原理
- 小编知道很多的行业都会使用等离子清洗机,因为等离子清洗设备在现在的工业和商业上都发挥它的贡献。所以小编就来给大家分析等离子清洗机原理。其实很多等离子设备原理都有相同点和差异性。首先大家要了解什么是等离子,等离子体的定义:等离子体(plasma)是一团含有正离子、电子、自由基及中性气体原子所组成的会发光的气体团,如日光灯、霓红灯发亮的状态,就是属于等离子体发亮的状态。等离子体的产生最主要是靠电子去撞击中性气体原子,使中性气体原子解离而产生等离子体,但中性气体原子核对其外围的电子有一束缚的能量,我们称它为束缚能,而外界的电子能量必须大于此束缚能,才会有能力解离此中性气体原子,但是,此外界的电子往往是能量不足的,没有解离中性气体原子的能力,所以,我们必须用外加能量的方法给原子电子能量,使电子有利用解离此中性气体原子。等离子体清洗技术-金铂利莱等离子清洗机原理就是利用等离子的特性使用大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,不但清除了表面原有的污染物和杂质,而且会产生刻蚀作用,将样品表面变粗糙,形成许多微细坑洼,增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。要外加能量给电子,最简单的方法就是用平行电极板加一直流电压,电子在电极中,会被带正电的电极所吸引而加速,在加速的过程中电子可以累积能量,当电子的能量达到某一程度时,就有能力来解离中性气体原子,能产生高密度等离子体的方法有很多种。在线等离子清洗机-金铂利莱以上就上基本上就是等离子清洗机的原理了,一次没看懂,没关系可以联系我们小编给你再次讲解或者关注金铂利莱kimberlite,当然需要等离子清洗设备的尽管放马过来,我是专业集研发生产销售一体化的等离子清洗机的品牌公司。本出自深圳金铂利莱科技,转载请注明出处!
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