2025-01-10 10:49:50FEP-171光刻胶

FEP-171光刻胶是一种高性能的光刻材料，主要用于半导体制造中的精细图案形成。它具有良好的分辨率、粘附性和抗蚀性，能够在微米至纳米级尺度上精确复制掩模图案。FEP-171光刻胶适用于先进的光刻工艺，能够满足高精度、高可靠性的半导体器件生产需求。其优异的化学稳定性和热稳定性确保了在使用过程中图案的完整性和精度，是半导体制造中不可或缺的关键材料之一。

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