杂交瘤技术 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-14 17:10:06杂交瘤技术: 杂交瘤技术是一种将具有无限增殖能力的骨髓瘤细胞与能分泌特异性抗体的B淋巴细胞融合，形成杂交瘤细胞的技术。这种杂交瘤细胞既能迅速大量增殖，又能产生专一的特异性抗体。杂交瘤技术广泛应用于制备单克隆抗体，在免疫学、生物医学研究及临床诊断中具有重要作用。该技术具有抗体纯度高、特异性强、制备效率高等优势，为生物技术和免疫学领域提供了有力的工具。

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先导抗体分子产生之路——杂交瘤技术

杂交瘤技术又称为单克隆抗体技术：它的主要流程为先进行动物免疫，将特定的抗原注射到哺乳动物体内，使之脾脏内产生大量分泌针对该抗原的特异性抗体的B淋巴细胞。

贝克曼库尔特商贸（中国）有限公司 706
2022-05-31
杂交瘤技术单克隆抗体技术

杂交瘤技术文章

从杂交瘤技术到单B细胞技术:单克隆抗体技术发展史

单克隆抗体（Monoclonal Antibody, mAb）技术在生物医药领域取得了巨大的成功，成为了临床诊断、治疗以及科学研究中不可或缺的工具。

卡梅德生物科技（天津）有限公司 71
2025-01-14
杂交瘤技术噬菌体展示技术单B细胞技术
杂交瘤技术的应用及局限性

 北京义翘神州科技股份有限公司 122
2024-05-20
【卡梅德生物】鼠单克隆抗体与配对抗体开发：杂交瘤技术引领的精准诊疗革命

在抗体药物的研发历程中，鼠单克隆抗体定制、杂交瘤单抗定制与配对抗体开发始终占据着不可替代的地位。从基础科研的靶点验证到临床治疗的精准干预，这三种技术通过持续创新与融合，不断突破技术瓶颈。

卡梅德生物科技（天津）有限公司 123
2025-03-17
鼠单克隆抗体定制杂交瘤单抗定制杂交瘤单抗定制

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: 核磁共振成像技术实验仪; 国内江苏; 面议; 苏州纽迈分析仪器股份有限公司
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杂交瘤技术问答

2024-01-17 16:04:12杂交瘤技术应用、优缺点、常见问题解析: 杂交瘤技术又称细胞融合技术，是将两个或多个细胞融合成一个。融合后形成的杂交瘤细胞承袭了两亲本细胞的特征。自发的细胞融合很少发生，当加入一种融合剂，如：聚乙二醇（常用）、仙台病毒或溶血卵磷脂后，两种细胞就可发生融合。首先是质膜互相融合，形成具有两个或多个核的异核体，细胞进一步分裂时，核互相融合，形成了杂交细胞。杂交瘤技术优缺点：优点：与传统的免疫动物方法制备抗体相比，利用杂交瘤技术可以制备出高纯度的单抗，并且可以进行单克隆抗体的大量生产。缺点：a.操作步骤繁琐。b.利用杂交瘤技术生产出的单克隆抗体多为鼠源性，而鼠源性抗体在应用中有诸多问题，例如被人类免疫系统所识别，产生人抗鼠抗体( HAMA）反应、在人体循环系统中很快被清除等。杂交瘤技术应用：①诊断应用：单克隆抗体在疾病诊断中发挥了重要作用，其优点在于诊断准确且无交叉反应，例如在乙型肝炎及潜伏的乙型肝炎病毒的诊断中，单克隆抗体能显著减少假阴性的漏诊。②治-疗载体：单克隆抗体也可作为治-疗疾病的载体。通过与抗肿瘤药物结合，单克隆抗体能在体内选择性集中攻击肿瘤细胞，具有靶向性，从而减少对正常组织的损伤并减轻抗-癌药物的副作用。因此，载药单克隆抗体被誉为“生物导-弹”。③异种蛋白质问题：目前大多数单克隆抗体为鼠-鼠型，对于人体来说属于异种蛋白质，容易引起排异反应，限制了其在治-疗中的应用。④人-人型单克隆抗体的研究：为了解决排异问题，研究者正在努力研发人-人型单克隆抗体，以利于其在治-疗中的广泛应用。杂交瘤技术常见问题解析： ①电融合和PEG融合的区别？PEG化学融合是利用聚乙二醇分子能够改变细胞膜结构的特性来实现细胞融合的过程。聚乙二醇可以使两个细胞接触点质膜的脂质分子发生疏散和重组，两个细胞接触部位的质膜由于相互亲和以及彼此的表面张力作用，从而发生细胞融合。电融合则是先通过高频交流电压，使细胞成串珠状排列，实现点接触；然后施加方波脉冲，击穿两个细胞接触部位的质膜，质膜脂质分子发生重组，同时由于细胞表面张力作用，完成细胞融合。电融合法比PEG融合法有明显的优点：细胞融合率高，有利于杂交瘤的筛选；电脉冲击穿对细胞的损伤小，有利于融合后细胞的生长增殖；可直接观察融合过程；便于有目的地控制选择融合条件。 ②为什么要推荐进行2~3轮有限稀释获得稳定的杂交瘤细胞株？阳性单克隆细胞的获得通常进行至少2轮有限稀释，原因主要考虑两点。第一，有限稀释过程中，大多数是通过实验者在显微镜下观察细胞团状态来判定是否是单克隆，存在一定的主观经验值，至少进行两轮有限稀释可以增加判断的准确性；第二，杂交瘤细胞由两个细胞融合而成，存在基因的不稳定性，连续2轮有限稀释，客观上增加了筛选中细胞培养时间，有利于淘汰不稳定的杂交瘤细胞株。 ③为什么要使用核酸免疫？重组蛋白由于免疫靶向明确、剂量可控等优势，通常作为动物免疫阶段的首-选免疫原。但有些重组蛋白因为表达纯化困难，很难大量获得并用于动物免疫；另外，重组蛋白与天然样本之间存在或多少的结构差异。而核酸免疫，跳过了蛋白表达纯化的过程，成功避开了蛋白生产的难题，通过核酸体内表达的蛋白结构也更加接近天然蛋白，故而可以作为重组蛋白免疫的有效补充手段。但核酸免疫的免疫剂量很难判断，整体免疫效价也会普遍低于蛋白和多肽免疫。 ④除弗氏佐剂之外，免疫佐剂还有哪些？免疫佐剂是指那些同抗原一起或预先注入机体内能增强机体对抗原的免疫应答能力或改变免疫应答类型的辅助物质。佐剂的免疫生物学作用是增强免疫原性、增强抗体的滴度、改变抗体产生的类型、引起或增强迟发超敏反应等。除经典的弗氏佐剂外，各类不同功能的佐剂也层出不穷，比较常见的有：1）无机佐剂，如磷酸铝佐剂、氢氧化铝佐剂；2）生物类佐剂，如以细菌胞壁或产物为主要组成的佐剂；3）具有佐剂活性的细胞因子类，如GSF、IL1、IL2、IFN -γ等；4）人工合成佐剂，如cpG等。 ⑤杂交瘤融合后主克隆接种96孔细胞培养板数量通常是多少？融合后的主克隆细胞接种96孔细胞培养板的数量与融合效率和脾细胞多少有密切关系。PEG化学融合后的主克隆，通常一只小鼠的脾细胞可以接种8-15块96孔细胞培养板；电融合因为融合效率大大提高，通常一只小鼠的脾细胞可以接种30~50块96孔细胞培养板。更多杂交瘤技术开发平台详情可以关注：https://cn.sinobiological.com/services/platform/hybridoma-development 义翘神州：蛋白与抗体的专业引领者，欢迎通过百度搜索“义翘神州”与我们取得联系。

2025-08-16 10:20:41戴永江《激光雷达技术》电子书: 戴永江《激光雷达技术》电子书PDF 上下册谁有

2024-10-28 15:39:48便携式色谱仪有哪些基本原理和技术？: 一、便携式色谱仪的基本构造与原理便携式色谱仪是一种集成化高、结构紧凑的分析仪器，能够快速检测样品中的化合物。它通常由进样系统、色谱柱、检测器和数据处理系统等部分组成。设备通过气体或液体将样品带入色谱柱中二、便携式色谱仪的应用领域环境监测在环境保护方面，便携式色谱仪被广泛用于检测空气、水体和土壤中的污染物。其快速的检测速度和便携的特性，使得工作人员可以在污染源头直接获取数据，及时发现问题，避免污染物进一步扩散。食品安全检测在食品安全领域，便携式色谱仪主要用于检测食品中的农药残留、添加剂以及其他有害物质。设备不仅可以在现场检测，提高检测效率，减少运输样品带来的时间延迟，同时保证样品的原始状态，提升检测结果的准确性。医药行业应用医药行业对化学成分的精确分析需求很高，便携式色谱仪能够在现场快速分析药品中的有效成分和杂质含量，提高药品研发、生产及质量检测的效率。便携式色谱仪在临床诊断中也得到了应用，帮助医生进行即时的药物代谢分析，为临床决策提供数据支持。图片中展示了仪器在医药实验室和医疗现场的应用场景，直观展现了便携式色谱仪的多样化用途。化工行业的质量控制化工企业中，便携式色谱仪能够实时监测生产流程中的化学成分，保证产品质量的一致性。便携式色谱仪的快速响应能力，使得企业可以在短时间内完成质量检查三、便携式色谱仪在使用中的优势便携式色谱仪与传统的台式色谱仪相比，具有无可替代的优势。其便携性使得设备可以用于多种现场分析需求，如紧急事故、流动检测等。由于其集成化设计，便携式色谱仪的操作更为简单，通常只需经过短时间培训即可上手。便携式色谱仪还具备快速检测的能力，有助于减少传统实验室检测所需的等待时间，极大提升了效率。其小型化的结构不需要复杂的电源支持，通常由电池驱动，适合长时间户外使用。四、便携式色谱仪选购与使用建议对于用户来说，选择合适的便携式色谱仪至关重要。要根据具体需求选择合适的色谱柱和检测器，确保设备能够高效分离和检测目标化合物。应关注设备的检测精度、响应时间和电池续航能力，保证仪器在不同环境下的可靠性。

2025-03-06 13:15:15济南防腐蚀流量计制造有哪些技术特点？: 济南防腐蚀流量计制造：质量与技术的结合随着工业自动化水平的不断提高，流量计作为测量和控制流体流量的重要工具，在众多行业中扮演着至关重要的角色。尤其是在一些需要防腐蚀性能的特殊环境下，防腐蚀流量计的应用越来越广泛。济南作为中国流量计制造的重镇，其防腐蚀流量计的制造技术日臻成熟，成为国内外市场的重要供应来源。本文将深入探讨济南防腐蚀流量计制造的技术优势、市场需求及其在多个行业中的应用。防腐蚀流量计的技术优势防腐蚀流量计是专为高腐蚀性介质设计的流量测量仪器，通常用于石油、化工、制药、电力等行业。济南的防腐蚀流量计制造商采用了先进的材料技术和精密的制造工艺，确保仪器的稳定性和准确性。防腐蚀流量计主要通过特殊的涂层、密封材料和耐腐蚀合金来抵御恶劣环境中的化学腐蚀，保证其长期可靠运行。济南防腐蚀流量计制造商在产品设计上注重实用性与创新性的结合，采用了高性能的流量传感器和智能化的电子模块，使得流量计不仅具有较强的抗腐蚀性能，还能够提供高精度、高稳定性的流量测量结果。济南厂商还根据不同客户的需求，提供定制化的防腐蚀流量计解决方案，以满足各行业的特殊要求。市场需求的持续增长近年来，随着环保意识的增强和对生产工艺要求的提高，防腐蚀流量计的市场需求逐渐增大。特别是在石油、天然气、化工等行业，由于使用的原材料和流体介质具有高度腐蚀性，对流量计的要求更为严格。这使得济南的防腐蚀流量计制造商凭借其成熟的技术积累和先进的生产设备，迅速占领市场并成为行业领军者。除了传统行业，随着新能源和环保产业的崛起，新的应用场景也对防腐蚀流量计提出了新的需求。例如，在氢气、天然气、化学品等高腐蚀性介质的运输与储存过程中，对流量计的防腐蚀性能提出了更高要求。济南防腐蚀流量计制造商积极响应市场变化，不断创新，研发出了适应不同工作环境的新型流量计，满足了各行业的高精度、高性能需求。济南防腐蚀流量计的广泛应用济南防腐蚀流量计广泛应用于多个领域，尤其是在石油、化工、电力、冶金、制药和水处理等行业。以石油化工行业为例，流量计用于测量酸性气体、化学液体及其他有腐蚀性的介质。在这些应用中，防腐蚀流量计的高耐腐蚀性和长期稳定性保证了生产过程的顺利进行。在制药行业，防腐蚀流量计用于测量精密的化学物质流量，要求流量计不仅具备良好的防腐蚀能力，还需要的测量结果，以确保生产过程中药品的质量和安全。济南的防腐蚀流量计制造商通过采用新的制造工艺和材料技术，满足了这一行业的需求。总结济南的防腐蚀流量计制造技术在国内外市场中占据了重要地位。凭借其的技术优势和的制造工艺，济南的防腐蚀流量计能够应对各类恶劣环境中的流量测量需求。随着市场对防腐蚀流量计的需求不断增长，济南的制造商正不断推出创新产品，以满足不同行业的特殊需求。未来，随着科技的进步和工业自动化水平的提升，济南的防腐蚀流量计将在更多领域发挥更加重要的作用。

2022-11-18 16:15:48反应离子刻蚀技术: 反应离子刻蚀概述：反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀，即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应，同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。主要用于Si、SiO2、SiNx、半导体材料、聚合物、金属的刻蚀以及光刻胶的去除等，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。工作原理：通常情况下，反应离子刻蚀机的整个真空壁接地, 作为阳极, 阴极是功率电极, 阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体, 加上大于气体击穿临界值的高频电场, 在强电场作用下, 被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞, 当电子能量大到一定程度时, 随机碰撞变为非弹性碰撞, 产生二次电子发射, 它们又进一步与气体分子碰撞, 不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时, 放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团) 也称为等离子体, 具有很强的化学活性, 可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应, 形成挥发性物质, 达到腐蚀样品表层的目的。同时, 由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面, 高能离子在一定的工作压力下, 垂直地射向样品表面, 进行物理轰击, 使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性。所以，反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。刻蚀气体的选择对于多晶硅栅电极的刻蚀，腐蚀气体可用Cl2或SF6，要求对其下层的栅氧化膜具有高的选择比。刻蚀单晶硅的腐蚀气体可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蚀SiO2的腐蚀气体可用CHF3或CF4/H2；刻蚀Si3N4的腐蚀气体可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蚀Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蚀气体可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蚀W的腐蚀气体可用SF6或CF4；刻蚀光刻胶的腐蚀气体可用氧气。对于石英材料, 可选择气体种类较多, 比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我们选用CHF3 气体作为石英的腐蚀气体。其反应过程可表示为：CHF3 + e——CHF+2 + F (游离基) + 2e，SiO 2 + 4F SiF4 (气体) + O 2 (气体)。SiO 2 分解出来的氧离子在高压下与CHF+2 基团反应，生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多种挥发性气体。对于锗材料、选用含F 的气体是十分有效的。然而, 当气体成份中含有氢时, 刻蚀将受到严重阻碍, 这是因为氢可以和氟原子结合, 形成稳定的HF, 这种双原子HF 是不参与腐蚀的。实验证明, SF6 气体对Ge 有很好的腐蚀作用。反应过程可表示为：SF6 + e——SF+5 + F (游离基) + 2e，Ge + 4F——GeF4 (挥发性气体) 。设备：典型的（平行板）RIE系统包括圆柱形真空室，晶片盘位于室的底部。晶片盘与腔室的其余部分电隔离。气体通过腔室顶部的小入口进入，并通过底部离开真空泵系统。所用气体的类型和数量取决于蚀刻工艺;例如，六氟化硫通常用于蚀刻硅。通过调节气体流速和/或调节排气孔，气体压力通常保持在几毫托和几百毫托之间的范围内。存在其他类型的RIE系统，包括电感耦合等离子体（ICP）RIE。在这种类型的系统中，利用RF供电的磁场产生等离子体。虽然蚀刻轮廓倾向于更加各向同性，但可以实现非常高的等离子体密度。平行板和电感耦合等离子体RIE的组合是可能的。在该系统中，ICP被用作高密度离子源，其增加了蚀刻速率，而单独的RF偏压被施加到衬底（硅晶片）以在衬底附近产生定向电场以实现更多的各向异性蚀刻轮廓。操作方法：通过向晶片盘片施加强RF（射频）电磁场，在系统中启动等离子体。该场通常设定为13.56兆赫兹的频率，施加在几百瓦特。振荡电场通过剥离电子来电离气体分子，从而产生等离子体。在场的每个循环中，电子在室中上下电加速，有时撞击室的上壁和晶片盘。同时，响应于RF电场，更大质量的离子移动相对较少。当电子被吸收到腔室壁中时，它们被简单地送到地面并且不会改变系统的电子状态。然而，沉积在晶片盘片上的电子由于其DC隔离而导致盘片积聚电荷。这种电荷积聚在盘片上产生大的负电压，通常约为几百伏。由于与自由电子相比较高的正离子浓度，等离子体本身产生略微正电荷。由于大的电压差，正离子倾向于朝向晶片盘漂移，在晶片盘中它们与待蚀刻的样品碰撞。离子与样品表面上的材料发生化学反应，但也可以通过转移一些动能来敲除（溅射）某些材料。由于反应离子的大部分垂直传递，反应离子蚀刻可以产生非常各向异性的蚀刻轮廓，这与湿化学蚀刻的典型各向同性轮廓形成对比。RIE系统中的蚀刻条件很大程度上取决于许多工艺参数，例如压力，气体流量和RF功率。 RIE的改进版本是深反应离子蚀刻，用于挖掘深部特征。

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