高分辨率场发射扫描电镜 - 产品信息 - 相关知识

2025-05-15 15:33:27高分辨率场发射扫描电镜: 高分辨率场发射扫描电镜是一种高性能的电子显微镜，具有高分辨率、高放大倍数及优异的图像质量。它采用场发射电子枪，能够产生高亮度、细小的电子束，实现对样品表面的高精度扫描成像。高分辨率场发射扫描电镜广泛应用于材料科学、纳米技术、生物医学等领域，用于观察和分析样品的微观形貌、结构及组成，为科学研究和技术创新提供了重要的成像手段。

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高分辨率场发射扫描电镜问答

2023-08-15 09:10:37二手日本电子场发射扫描电镜

2023-01-31 09:16:31场发射扫描电镜基本构造: 一、电子源：也称电子枪，产生连续不断的稳定的电子流。普通扫描电镜的电子枪由阴极（灯丝）、栅极和阳极组成。阴极采用能加热的钨丝，栅极围在阴极周围。被加热了的钨丝释放出电子，并在阳极和阴极之间施加高压，形成加速电场，从而使电子得到能量——高速飞向（在高真空镜筒中）样品。而场发射电子枪与普通钨丝电子枪有所不同，阴极呈杆状，在它的一端有个极锋利的尖点（直径小于100nm）,尖端的电场极强，电子直接依靠“隧道”穿过势垒离开阴极，由加速电压加速产生高速电子流飞向样品。一般来说，扫描电镜加速电压通常为1——30kV。二、电子透镜：将从电子枪发射出来的电子会聚成直径最小为1——5nm电子束。　　三、扫描系统：使电子束作光栅扫描运动。

2023-01-31 09:05:09场发射扫描电镜的性能特点: 一、场发射扫描电镜分辨率高在场发射扫描电镜中，人们最感兴趣的信号是二次电子和背散射电子，这两种信号的发射强度随着样品表面的形貌和化学成分而变化。二次电子产区限于入射电子束射人样品的附近区域，从而获得相当高的形貌分辨率，场发射扫描电镜（FESEM)的图像分辨率已经优于1nm，为纳米和亚微米尺度的研究提供了极大的便利。这类电镜属于场发射扫描电镜的高端产品。二、场发射扫描电镜放大倍率宽放大倍率与分辨率密切相关，为了获得高分辨率图像，必须使用高放大倍率。光镜放大倍率有限，最高到1500倍，透射电镜放大倍率可以高达100万倍、扫描电镜放大倍率范围可以从几倍至几十万倍，三种显微镜的放大倍率成为一个系列。在扫描电镜中，利用低倍观察样品的全貌，利用高倍研究样品的微观细节。操作时放大倍率连续可调，使用非常方便。低倍图像有光镜图像的特点，扫描电镜图像比较直观，容易解释。高倍图像可以与相应的透射电镜图像相比对。三、场发射扫描电镜三维立体效果好光镜和透射电镜图像景深小，只能观察样品某个平面，在深度方向上是模糊的。扫描电镜图像景深大，有的电镜在电子光学系统上经过特殊设计，可以提供几十毫米的景深范围，即一张场发射扫描电镜像不仅在X，Y两个方向上的细节清晰，而且在图像深度方向也很清楚。一幅两维图像，可以提供三维信息，使人们获得更多的微观信息量，适用于表面粗糙样品的观察，例如：金属材料断口、颗粒样品的三维形态分析。利用扫描电镜样品台的同轴心倾斜，可以获得样品的立体图像对(Stereo pairs)，经合成后，变成立体图像，使用图像分析软件可以准确测量深度方向的数据，这是扫描电镜独特的性能。

2022-02-09 11:34:47热场发射扫描电子显微镜JSM-7610FPlus: 二次电子像分辨率 0.8 nm（加速电压 15 kV），1.0 nm（加速电压 1 kV ）分析时 3.0 nm (加速电压 15 kV, WD 8 mm, 探针电流 5 nA ) 倍率 Direct magnification: x25 to 1,000,000（120 x 90 mm）Display magnification: x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels）加速电压 0.1 ～ 30 kV 探针电流数 pA ～ 200 nA 电子枪浸没式肖特基场发射电子枪透镜系统聚光镜（CL）、最佳光阑角控制镜（ACL）、半浸没式物镜（OL）样品台全对中测角样品台、5轴马达驱动电子检测器系列高位检测器、　r‐过滤器　内置、低位检测器自动功能自动聚焦、自动消象散、自动亮度/衬度调节图像观察用液晶显示器屏幕尺寸 23英寸宽屏分辨率　1,920 × 1,080像素抽真空系统电子枪室／中间室　SIP 离子泵样品室　TMP 分子泵

2025-05-16 11:15:25扫描电镜怎么聚焦: 扫描电镜怎么聚焦扫描电镜（SEM，Scanning Electron Microscope）作为一种强大的分析工具，广泛应用于材料科学、生物学、半导体等领域。其核心功能之一就是通过的聚焦技术，确保扫描电子束能够高效且清晰地探测样品表面特征，从而提供高分辨率的图像和数据。要获得高质量的扫描图像，正确的聚焦至关重要。在这篇文章中，我们将详细探讨扫描电镜的聚焦原理、聚焦过程中常见的问题以及如何通过合理调整参数确保佳成像效果。扫描电镜的聚焦原理扫描电镜的基本原理是利用电子束扫描样品表面，并通过探测二次电子、背散射电子等信号来形成图像。电镜中的电子束必须聚焦在样品的表面，以获得清晰的图像。聚焦过程通过调节电子束的大小、形状和射向样品的角度来实现，这需要精确的控制电子镜头系统。在SEM中，电子镜头通常由多个磁透镜构成，每个透镜通过调整电流来影响电子束的聚焦度。如何聚焦扫描电镜调节光圈：光圈控制电子束的大小，它直接影响到束流的强度和成像的深度。当光圈调整不当时，电子束可能会扩散或聚焦不清，导致图像模糊。通常，使用较小的光圈会提供更高的分辨率，但也会减小视场。调整物镜透镜：扫描电镜通过物镜透镜进行精确聚焦。物镜透镜的调节主要是通过改变电流强度来实现。当样品距离透镜不合适时，图像会显得不清晰，因此调整物镜透镜的位置是确保清晰成像的关键。对焦的细节调节：在实际操作中，电镜通常配备精细的对焦系统，允许用户在微米甚至纳米级别精确调节焦点。通过在图像屏幕上观察样品表面，可以实时调整焦距，直到图像清晰为止。常见的聚焦问题及其解决方法图像模糊：这通常是由于对焦不准或电子束未能有效聚焦所致。解决方法是通过调整物镜透镜和光圈来重新聚焦，或者检查电镜的电子源是否稳定。样品表面损伤：当聚焦过于集中时，电子束的能量过高可能会对样品表面造成损害。为避免这种情况，应适当减小束流并适当调节对焦。焦点漂移：由于样品或电镜系统的温度变化，焦点可能会发生漂移。为了克服这个问题，使用精细的对焦调节系统是非常重要的。如何确保佳聚焦效果在扫描电镜的操作中，确保佳聚焦效果的关键是细致的调节和耐心的操作。除了基础的物镜调节和光圈控制外，操作员应当熟悉样品的特性和扫描参数的影响，并能够根据实际情况调整聚焦参数。保持电镜系统的稳定性，定期校准设备，也能大大提高聚焦效果和图像质量。扫描电镜的聚焦是一个精细而复杂的过程，只有通过对电子束的准确控制与合理调节，才能确保获得高质量的扫描图像。掌握这一过程的技巧，能够极大提升扫描电镜在科学研究和工业应用中的精度和可靠性。