- 2025-01-10 10:50:43原子原子吸收光谱技术原理
- 原子吸收光谱技术原理基于原子对特定波长光的吸收现象。它通过测量样品中金属元素对光的吸收程度，来分析元素的含量。该技术具备分析准确、操作简便以及适用范围广等特点，能够高效、精确地进行元素定量分析。原子吸收光谱技术广泛应用于化学、生物、医药等领域，为科研实验、产品质量控制等提供了重要的技术支持。
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- 原子吸收光谱仪是一种精确、高效的分析工具，广泛应用于环境保护、食品安全、生命科学等多个领域。通过其高度灵敏的元素检测能力，科研人员和工程技术人员能够获得准确的分析数据。
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原子原子吸收光谱技术原理 问答
- 2023-08-09 15:13:49原子层沉积ALD在纳米材料方面的应用
- 在微纳集成器件进一步微型化和集成化的发展趋势下，现有器件特征尺寸已缩小至深亚微米和纳米量级，以突破常规尺寸的极限实现超微型化和高功能密度化，成为近些年来的热点研究领域。微纳结构器件不仅对功能薄膜本身的厚度和质量要求严格，而且对功能薄膜/基底之间的界面质量也十分敏感，尤其是随着复杂高深宽比和多孔纳米结构在微纳器件中的应用，传统的薄膜制备工艺越来越难以满足其发展需求。ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。 微机电系统(MEMS)是尺寸在几毫米乃至更小的高科技装置，其内部结构一般在微米甚至纳米量级，是一个独立的智能系统，主要由传感器、动作器(执行器)和微能源三大部分组成，广泛应用于智能系统、消费电子、可穿戴设备、智能家居、系统生物技术的合成生物学与微流控技术等领域。MEMS的构造过程需要精细的微纳加工技术，而工作过程伴随着器件复杂的三维运动，其中ALD技术均可发挥重要作用，ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。 磁隧道结(MTJ)是由钉扎层、绝缘介质层和自由由层的多层堆垛组成。在电场作用下，电子会隧穿绝缘层势垒而垂直穿过器件，电子隧穿的程度依赖于钉扎层和自由层的相对磁化方向。随着MTJ尺寸的不断缩小以及芯片集成度的不断提高，MTJ制备过程中的薄膜生长工艺偏差和刻蚀工艺偏差的存在，将会导致MTJ状态切换变得不稳定，并降低MTJ的读取甚至会严重影响NV-FA电路中写入功能和逻辑运算结果输出功能的正确性。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。 生物物理学微流体器件可由单个纳米孔和电极组成，也可以由许多纳米孔阵列组成，可同时筛选、引导、定位、测量不同尺度的生物大分子，在生物物理学和生物技术领域中有着广泛的应用前景。生物纳米孔逐渐受到了人们的普遍重视引起了人们的广泛兴趣，尤其是纳米孔作为生物聚合物的检测器件，为一些生物化学现象的基础研究提供了研究的平台。然而生物纳米孔所固有的一些缺陷也很明显，如生物相容性差及微孔的尺寸不可更改等；针对于此，ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。图一: ALD Al2O3(仅~10 nm)可作为MEMS齿轮高硬度润滑膜图二：ALD应用于低温MEMS器件构造图三：MRAM磁隧道结（MTJ）存储元件图四：一种具有纳米蛛网结构的细菌纤维素膜
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- 2021-10-25 16:14:17冷原子领域专用光源介绍
- 光源—— 外腔半导体激光器 冷原子实验中，一般都会需要用到冷却光、选态抽运光、探测光等一系列不同频率的激光束。尽管它们的频率和用途不相同，但是他们都需要和原子的精细或者超精细能级产生相互作用。因此冷原子领域应用对激光的质量有很高的要求，即线宽窄、频率精度高，至少需要和原子的超精细能级的自然线宽处于相当的水平。因此，产生高稳定度、窄线宽的高质量激光束成为冷原子实验中一个基础而又非常重要的工作。昊量光电隆重推出澳大利亚MOGLabs外腔半导体激光器系列产品，除了百KHz窄线宽外，还自带稳频模块，完全可以满足冷原子领域客户的实验需求。具体产品系列由以下四类：CEL猫眼外腔、Littrow 外腔半导体激光器及光放大产品。Ⅰ. CEL 猫眼外腔半导体激光器 （500-1612 nm） MOGLabs公司Cateye（猫眼式）外腔半导体激光器（ECDL）是一种新型的外腔半导体激光器，采用猫眼式反射镜+超窄带宽滤波器组合替代传统准直敏感的基于光栅设计的Littrow或Litman-Metcalf结构。特性猫眼式滤波器设计紧凑设计快速压电陶瓷反馈精密波长调谐微波RF调制二极管保护电路和继电器优势声学惰性和被动稳定超窄线宽自准直高速反馈带宽低噪声频率应用声学惰性和被动稳定超窄线宽自准直高速反馈带宽低噪声频率主要技术指标： 波长范围：500-1612nm 输出功率高达250毫瓦线宽
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- 2021-10-25 16:11:08冷原子领域专用产品介绍
- 一．光源——外腔半导体激光器 MOGLabs公司Cateye（猫眼式）外腔半导体激光器（ECDL）是一种新型的外腔半导体激光器，采用猫眼式反射镜+超窄带宽滤波器c组合替代传统准直敏感的基于光栅设计的Littrow或Litman-Metcalf结构。 特性猫眼式滤波器设计紧凑设计快速压电陶瓷反馈精密波长调谐微波RF调制二极管保护电路和继电器优势声学惰性和被动稳定超窄线宽自准直高速反馈带宽低噪声频率应用激光冷却与捕获玻色爱因斯坦凝聚囚禁离子量子光学激光光谱主要技术指标： 波长范围：370-1612nm输出功率高达瓦量级线宽
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- 2023-02-15 14:54:00真空蒸发镀膜技术原理
- 真空蒸发镀膜技术原理 一、蒸发镀膜简述：真空蒸发镀膜（简称真空蒸镀）是指在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。由于真空蒸发法或真空蒸镀法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生，所以又称热蒸发法或者热蒸镀，所配套的设备称之为热蒸发真空镀膜机。这种方法zui早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。 尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸镀优越，但真空蒸发技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可镀制非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。近年来，由于电子轰击蒸发，高频感应蒸发及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使这一技术更趋完善。 近年来，该法的改进主要是在蒸发源上。为了抑制或避免薄膜原材料与蒸发加热器发生化学反应，改用耐热陶瓷坩埚，如 BN坩埚。为了蒸发低蒸气压物质，采用电子束加热源或激光加热源。为了制造成分复杂或多层复合薄膜，发展了多源共蒸发或顺序蒸发法。为了制备化合物薄膜或抑制薄膜成分对原材料的偏离，出现了反应蒸发法等。 二、热蒸镀工作原理： 真空蒸发镀膜包括以下三个基本过程∶（1）加热蒸发过程。包括由凝聚相转变为气相（固相或液相→气相）的相变过程。每种蒸发物质在不同温度时有不相同的饱和蒸气压;蒸发化合物时，其组分之间发生反应，其中有些组分以气态或蒸气进入蒸发空间。（2）气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输运过程，即这些粒子在环境气氛中的飞行过程。飞行过程中与真空室内残余气体分子发生碰撞的次数，取决于蒸发原子的平均自由程，以及从蒸发源到基片之间的距离，常称源-基距。（3）蒸发原子或分子在基片表面上的沉积过程，即是蒸气凝聚、成核、核生长、形成连续薄膜。由于基板温度远低于蒸发源温度，因此，沉积物分子在基板表面将直接发生从气相到固相的相转变过程。将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸时，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子（主要是残余气体分子）的碰撞阻碍，可直接到达被镀的基片表面，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜，为了提高蒸发分子与基片的附着力，对基片进行适当的加热是必要的。为使蒸发镀膜顺利进行，应具备蒸发过程中的真空条件和制膜过程中的蒸发条件。 蒸发过程中的真空条件：真空镀膜室内蒸汽分子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离（称做蒸距）时，就会获得充分的真空条件。为此，增加残余气体的平均自由程，借以减少蒸汽分子与残余气体分子的碰撞概率，把真空镀膜室抽成高真空是非常必要的。否则，蒸发物原子或分子将与大量空气分子碰撞，使膜层受到严重污染，甚至形成氧化物；或者蒸发源被加热氧化烧毁；或者由于空气分子的碰撞阻挡，难以形成均匀连续的薄膜。 三、真空蒸镀特点: 优点：设备比较简单 、操作容易；制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单；缺点：不容易获得结晶结构的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附着力较小；工艺重复性不够好等。 四、蒸发源的类型及选择： 蒸发源是用来加热膜材使之气化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热，电子束加热，感应加热，电弧加热和激光加热等多种形式。电阻加热蒸发装置结构较简单，成本低，操作简便，应用普遍。电阻加热式蒸发源的发热材料一般选用W、Mo、Ta、Nb等高熔点金属，Ni、Ni-Cr合金。把它们加工成各种合适的形状，在其上盛装待蒸发的膜材。一般采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发，或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物（如Al2O3，BeO）等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。采用电阻加热法时应考虑的问题是蒸发源的材料及其形状，主要是蒸发源材料的熔点和蒸气压，蒸发源材料与薄膜材料的反应以及与薄膜材料之间的湿润性。因为薄膜材料的蒸发温度（平衡蒸气压为1. 33 Pa时的温度）多数在1 000 ~2 000 K之间，所以蒸发源材料的熔点需高于这一温度。而且．在选择蒸发源材料时必须考虑蒸发源材料大约有多少随蒸发而成为杂质进入薄膜的问题。因此，必须了解有关蒸发源常用材料的蒸气压。为了使蒸发源材料蒸发的分子数非常少，蒸发温度应低于蒸发源材料平衡蒸发压为1. 33×10-6Pa时的温度。在杂质较多时，薄膜的性能不受什么影响的情况下，也可采用与1. 33×10-2Pa对应的温度。综上所述，蒸发源材料的要求：1、高熔点：必须高于待蒸发膜材的熔点（常用膜材熔点1000～2000℃）2、饱和蒸气压低：保证足够低的自蒸发量，不至于影响系统真空度和污染膜层3、化学性能稳定：在高温下不应与膜材发生反应，生成化合物或合金化4、良好的耐热性5、原料丰富、经济耐用 蒸发材料对蒸发源材料的“湿润性”：选择蒸发源材料时，必须考虑蒸镀材料与蒸发材料的“湿润性”问题。蒸镀材料与蒸发源材料的湿润性”与蒸发材料的表面能大小有关。高温熔化的蒸镀材料在蒸发源上有扩展倾向时，可以认为是容易湿润的;如果在蒸发源上有凝聚而接近于形成球形的倾向时，就可以认为是难干湿润的在湿润的情况下，材料的蒸发是从大的表面上发生的且比较稳定，可以认为是面蒸发源的蒸发;在湿润小的时候，一般可认为是点蒸发源的蒸发。如果容易发生湿润，蒸发材料与蒸发源十分亲和，蒸发状态稳定;如果是难以湿润的，在采用丝状蒸发源时，蒸发材料就容易从蒸发源上掉下来。 五、合金与化合物的蒸发： 1、合金的蒸发：采用真空蒸发法制作预定组分的合金薄膜，经常采用瞬时蒸发法、双蒸发源法。分馏现象：当蒸发二元以上的合金及化合物时，蒸发材料在气化过程中，由于各成分的饱和蒸气压不同，使得其蒸发速率也不同，得不到希望的合金或化合物的比例成分，这种现象称为分馏现象。（1）瞬时蒸发法：瞬时蒸发法又称“闪烁”蒸发法。将细小的合金颗粒，逐次送到非常炽热的蒸发器中，使一个一个的颗粒实现瞬间完全蒸发。关键以均匀的速率将蒸镀材料供给蒸发源粉末粒度、蒸发温度和粉末比率。如果颗粒尺寸很小，几乎能对任何成分进行同时蒸发，故瞬时蒸发法常用于合金中元素的蒸发速率相差很大的场合。优点：能获得成分均匀的薄膜，可以进行掺杂蒸发等。缺点：蒸发速率难以控制，且蒸发速率不能太快。 （2）双源蒸发法：将要形成合金的每一成分，分别装入各自的蒸发源中，然后独立地控制各个蒸发源的蒸发速率，使达到基板的各种原子与所需合金薄膜的组成相对应。为使薄膜厚度分布均匀，基板常需要进行转动。2、化合物的蒸发：化合物的蒸发方法：（1）电阻加热法（2）反应蒸发法（3）双源或多源蒸发法（4）三温度法（5）分子束外延法反应蒸发法主要用于制备高熔点的绝缘介质薄膜，如氧化物、氮化物和硅化物等。而三温度法和分子外延法主要用于制作单晶半导体化合物薄膜，特别是III-V族化合物半导体薄膜、超晶格薄膜以及各种单晶外延薄膜等。 将活性气体导入真空室，使活性气体的原子、分子和从蒸发源逸出的蒸发金属原子、低价化合物分子在基板表面淀积过程中发生反应，从而形成所需高价化合物薄膜的方法。不仅用于热分解严重，而且用于因饱和蒸气压较低而难以采用电阻加热蒸发的材料。经常被用来制作高熔点的化合物薄膜，特别是适合制作过渡金属与易分解吸收的02， N2等反应气体所组成的化合物薄膜（例如SiO2、ZrN、AlN、SiC薄膜）。在反应蒸发中，蒸发原子或低价化合物分子与活性气体发生反应的地方有三种可能，即蒸发源表面、蒸发源到基板的空间和基板表面。
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- 2024-12-16 15:24:43COD快速测定仪工作原理是什么？有哪些技术特点？
- COD（化学需氧量）是衡量水体中有机污染物含量的一项重要指标。COD的检测对于水质监测和环保领域具有重要意义。随着环境保护要求的提高，COD测定仪器的性能和检测效率不断提升。COD快速测定仪作为一种高效、准确的检测工具，广泛应用于水处理、工业排放以及水质监测等领域。COD快速测定仪的工作原理COD快速测定仪的核心原理是通过化学反应测量水样中有机物质的氧化程度，从而得出其COD值。传统的COD测定方法通常需要较长时间进行化学反应和加热，过程繁琐且耗时。而COD快速测定仪则通过优化反应条件、引入高效催化剂及精确的仪器控制系统，显著缩短了测试时间，并提高了测试的准确性。在测定过程中，水样中含有的有机物质会被强氧化剂（如高锰酸钾、重铬酸钾等）氧化。通过提供特定的温度和压力条件，使有机物质在氧化过程中消耗氧气。测定仪通过分析水样中氧化剂消耗量来计算水体的COD值。COD快速测定仪的技术特点快速反应与测定 与传统方法相比，COD快速测定仪的反应速度大大提高，通常可在几分钟内完成测试。这是由于仪器采用了高效加热和反应催化系统，使得氧化反应在较短时间内达到平衡，缩短了整体测试周期。高精度和稳定性 COD快速测定仪采用的传感器和自动化控制系统，能够精确测定水样中的化学需氧量，避免人为操作误差，提高测试结果的稳定性和准确性。节省试剂与成本 传统的COD测定方法往往需要大量的化学试剂，并且操作复杂。COD快速测定仪则通过优化反应配方，减少了试剂的使用量，同时降低了实验成本。自动化操作 现代COD快速测定仪具备自动化功能，操作简便。使用者只需将水样放入仪器并启动测试程序，仪器会自动完成加热、氧化反应、测量及数据输出等一系列步骤。适用广泛的测量范围 COD快速测定仪适用于不同类型的水体，包括工业废水、城市污水、河流水质等，具有广泛的应用前景。其精确测定能力可以满足不同水质监测需求，广泛应用于环保检测、工业排放标准监测、以及水质分析等领域。COD快速测定仪的应用COD快速测定仪在多个行业中发挥着重要作用。在水处理行业，特别是污水处理厂，COD快速测定仪帮助工程师实时监控水质，评估处理效果。工业废水排放方面，COD值是衡量废水污染程度的重要指标，COD快速测定仪帮助企业监测排放符合环保要求。科研机构和水质检测中心同样依赖该仪器进行水样分析和污染物检测。
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