- 2025-01-21 09:31:43纳米沉积印刷
- 纳米沉积印刷是一种高精度、高效率的纳米制造技术，通过将纳米材料精确沉积到基材表面，形成具有特定结构和功能的纳米图案。该技术结合了印刷技术的高通量与纳米技术的高精度，适用于多种材料体系，广泛应用于电子、光学、生物传感等领域。通过调控沉积参数，可实现对纳米结构尺寸、形状和分布的精确控制。
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纳米沉积印刷问答
- 2023-08-09 15:13:49原子层沉积ALD在纳米材料方面的应用
- 在微纳集成器件进一步微型化和集成化的发展趋势下，现有器件特征尺寸已缩小至深亚微米和纳米量级，以突破常规尺寸的极限实现超微型化和高功能密度化，成为近些年来的热点研究领域。微纳结构器件不仅对功能薄膜本身的厚度和质量要求严格，而且对功能薄膜/基底之间的界面质量也十分敏感，尤其是随着复杂高深宽比和多孔纳米结构在微纳器件中的应用，传统的薄膜制备工艺越来越难以满足其发展需求。ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。 微机电系统(MEMS)是尺寸在几毫米乃至更小的高科技装置，其内部结构一般在微米甚至纳米量级，是一个独立的智能系统，主要由传感器、动作器(执行器)和微能源三大部分组成，广泛应用于智能系统、消费电子、可穿戴设备、智能家居、系统生物技术的合成生物学与微流控技术等领域。MEMS的构造过程需要精细的微纳加工技术，而工作过程伴随着器件复杂的三维运动，其中ALD技术均可发挥重要作用，ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨损层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供优质解决方案。 磁隧道结(MTJ)是由钉扎层、绝缘介质层和自由由层的多层堆垛组成。在电场作用下，电子会隧穿绝缘层势垒而垂直穿过器件，电子隧穿的程度依赖于钉扎层和自由层的相对磁化方向。随着MTJ尺寸的不断缩小以及芯片集成度的不断提高，MTJ制备过程中的薄膜生长工艺偏差和刻蚀工艺偏差的存在，将会导致MTJ状态切换变得不稳定，并降低MTJ的读取甚至会严重影响NV-FA电路中写入功能和逻辑运算结果输出功能的正确性。ALD技术沉积参数高度可控，可通过精准控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的最佳工艺方案之一。 生物物理学微流体器件可由单个纳米孔和电极组成，也可以由许多纳米孔阵列组成，可同时筛选、引导、定位、测量不同尺度的生物大分子，在生物物理学和生物技术领域中有着广泛的应用前景。生物纳米孔逐渐受到了人们的普遍重视引起了人们的广泛兴趣，尤其是纳米孔作为生物聚合物的检测器件，为一些生物化学现象的基础研究提供了研究的平台。然而生物纳米孔所固有的一些缺陷也很明显，如生物相容性差及微孔的尺寸不可更改等；针对于此，ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。图一: ALD Al2O3(仅~10 nm)可作为MEMS齿轮高硬度润滑膜图二：ALD应用于低温MEMS器件构造图三：MRAM磁隧道结（MTJ）存储元件图四：一种具有纳米蛛网结构的细菌纤维素膜
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- 2022-04-24 16:42:23纳米多孔氧化铝
- 本品为化学法合成的白色球形粉末，无重金属、 无放射性元素。物理指标①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60纳米化学指标①本品用于喷墨打印纸的涂层， 为纸张提高光泽。②増加涂料的耐磨性，具有助流、 提高上粉率、防结块等特点应用范围①导热硅胶②电子灌封胶③粉末涂料公众号搜索粉体圈，联系报价。联系方式：400-869-9320转8990更多信息进入店铺查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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- 2021-10-19 16:33:00凹版印刷圆盘剥离试验机
- 凹版印刷圆盘剥离试验机适用于凹版印刷工艺生产的塑料薄膜和玻璃纸装潢等印刷品进行印刷墨层结合牢度的测试试验。亦用于真空镀膜、表面 涂布、复合等相关工艺形成的面层之附着状态的测试试验。 圆盘剥离试验机技术特征·微电脑控制，操作简便·试验结束自动报警提示圆盘剥离试验机技术参数盘间压力 100N剥离速度 0.8m/s 外形尺寸 290 mm×240 mm×390 mm(长宽高) 重 量 20kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 高80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 参照标准GB 7707 圆盘剥离试验机产品配置主机、电源线凹版印刷圆盘剥离试验机
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- 2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 纳米粒度及 Zeta
- BeNano 180 Zeta Pro 纳米粒度及 Zeta 电位分析仪BeNano 180 Zeta Pro 纳米粒度及 Zeta 电位分析仪——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 电位三合一型仪 器 简 介BeNano 180 Zeta Pro 纳米粒度及Zeta电位分析仪是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的顶 级光学检测系统。该系统中集成了背向 +90°动态光散射 DLS、电泳光散射 ELS和静态光散射技术 SLS，可以准确的检测颗粒的粒径及粒径分布，Zeta 电位，高分子和蛋白体系的分子量信息等参数，可广泛的应用于化学、化工、生物、制药、食品、材料等领域的基础研究和质量分析与控制。指标与性能Index＆performance粒径测试原理：动态光散射技术粒径范围：0.3 nm – 15 μm样品量：3 μL - 1 mL检测角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta电位测试原理：相位分析光散射技术检测角度：12°Zeta范围：无实际限制电泳迁移率范围：> ±20 μ.cm/V.s电导率范围：0 - 260 mS/cmZeta测试粒径范围：2 nm – 110 μm分子量测试分子量范围：342 Da – 2 x 107 Da微流变测试频率范围：0.2 – 1.3 x 107 rad/s测试能力：均方位移、复数模量、弹性模量、粘性模量、蠕变柔量粘度和折光率测试粘度范围：0.01 cp – 100 cp折光率范围：1.3-1.6趋势测试模式：时间和温度系统参数温控范围：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空气或者氮气标准激光光源：50 mW 高性能固体激光器， 671 nm相关器：最快25 ns采样，最多 4000 通道，1011 动态线性范围检测器：APD （高性能雪崩光电二极管）光强控制：0.0001% - 100%，手动或自动软件中文和英文符合21CFR Part 11原理图仪器检测检测参数颗粒体系的光强、体积、面积和数量分布颗粒体系的 Zeta 电位及其分布分子量分布系数 PD.I扩散系数 D流体力学直径 D H颗粒间相互作用力因子 k D溶液粘度检测技术动态光散射电泳光散射静态光散射
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- 2021-11-16 17:32:08Honle UV应用案例-印刷
- Dr. Hönle AG 能为印刷过程提供多种多样定制的 UV / LED / IR / 热风干燥机解决方案。作为系统供应商，我们能够提供包含了所有关键元件的高度集成产品并且专门提供整套解决方案，例如平张印刷和胶印、喷墨打印、柔印、移印或丝网印刷。印刷能力 目录胶印中的 IR 热风干燥应用实例：
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