直角反射棱镜 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-24 09:35:22直角反射棱镜: 直角反射棱镜是一种光学元件，具有一个直角形的反射面，能够将入射光线按照特定规律进行反射。它广泛应用于光学仪器中，如望远镜、显微镜以及激光测距仪等，用于改变光路方向、实现光线的转折或聚焦。直角反射棱镜具有高反射率、低损耗和稳定的光学性能，能够确保光线的精确传输和定位。其结构紧凑、设计巧妙，是光学系统中不可或缺的重要组件。

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直角反射棱镜问答

2021-01-20 16:02:28荧光检测器为什么是直角型?: 荧光检测器为什么是直角型?

2022-05-20 22:19:40明美透反射双光路数字切片扫描仪: 近年来，随着信息技术的快速发展，数字切片扫描已逐渐应用于医学教学、病理诊断、科研领域。目前市面上的数字切片扫描仪主要分为两类：箱式和显微镜式，两者对比的话优点各异，箱式的结构上会更简便，但功能相对比较单一；显微镜式的相当于是在普通显微镜上的升级改造，功能更加多样性。接下来我们介绍的是明美光电显微镜式数字切片扫描仪，它通过自主设计的光源与电子手轮，完整保留了传统显微镜的手动交互操作，在此基础上新增了切片全景扫描的功能，而且支持透反射双光路显微系统扫描，既可以扫描透明的病理切片，亦可以扫描不透明的地质矿石类标本，应用十分广泛。20X物镜病理切片全景扫描图（透射光路）20X物镜矿石标本全景扫描图（反射光路）明美数字切片扫描仪组成研究级正置显微镜机身，也可采用BX41、BX43、BX53等进口主机；标配透射光源，可选配反射照明模块。高精度电动平台，XY电动平台行程80*50mm，闭环定位精度0.5μm；Z轴闭环定位精度0.1μm，步进高帧率扫描相机，扫描帧率＞120fps，分辨率1920*1200，曝光时间＜7μs，由于标配的是双光路C接口，还预留一个接口可以用于安装大靶面显微相机，保留原显微镜单视野高分辨率拍照功能。快速无缝拼接系统，采用特殊优化的图像拼接算法，针对月牙形，U型等各种异形切片样品进行过拼接优化，能够在扫描成像后秒出无缝全局大图；15mm×15mm成像区域，10X物镜扫描成像速度丰富的切片图像管理功能，采用金字塔图像数据结构，在不同放大倍率的浏览需求下按需调用不同分辨率的图像，缩放浏览毫无卡顿感；提供API可获取图像数据底层Raw Data用于AI计算。扫描成像之前，应先通过显微镜阅片，快速确定切片是否可用于扫描以及需要扫描的区域（局部或全景），然后通过全自动显微镜系统扫描玻片采集得到高分辨率数字图像，再用计算机软件对这些图像自动进行无缝隙拼接和处理，并获得全视野数字化切片，可以自由观察切片的任意位置，进行无限倍率放大、缩小或连续变倍观察，这样既能看到切片全貌，又能从细微处观察病理变化，不再受镜下单一视野的局限。显微数字切片扫描仪的切片信息长期保存，实现了数字化、信息化、网络化，可以根据需求建立私有切片库，在没有显微镜和切片的条件下也能进行观察；在实际使用过程中，针对不同的工作目的，需要有取舍的来选择是采用传统显微镜观察模式还是采用扫描采图模式，才能发挥出显微数字切片扫描仪的技术优势。来源：https://www.mshot.com/article/1367.html

2020-09-16 09:41:32【课程推荐】KLA Instruments | Webinar课程：反射和透射：两个优于一个: 优尼康课程推荐KLA Instruments | Webinar课程：反射和透射：两个优于一个。※适合新老客户了解学习膜厚仪的使用；加深对产品的理解。 FILMETRICS同时测量光谱反射和透射对分析光学薄膜来讲是非常重要的。欢迎来到F10-RT独特的境界里。显然这会限制我们只能用透明基底材料，但这会让我们更准确地测量光学系数（特别是消光系数）。除五彩缤纷的介电薄膜外我们还会讨论上百纳米厚的金属薄膜。*点击“立刻注册”即可预约线上课程 Michelle Shi应用工程师 @KLA InstrumentsMichelle Shi 是KLA Instrument Group Filmetrics 光学轮廓仪以及薄膜测量仪的应用工程师。Michelle 于2019年5月加入KLA公司, 担任Filmetrics薄膜测量以及光学轮廓产品的应用，客户支持以及业务开发，主要支持Profilm3D光学轮廓仪以及Filmetrics全系列薄膜测量产品。在加入KLA之前，Michelle在美国俄亥俄大学获得物理学硕士学位并在NASA Ames硅谷研究ZX进行科学研究，以及在高新科技初创企业kaiaTech担任高级工艺工程师负责半导体薄膜材料的研发及新应用。

2020-10-16 11:46:53伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2: 伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜为了获取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射沉积技术镀制 Ta2O5 薄膜进行研究. 其系统工作示意图如下：该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双离子源、溅射靶、基片台等部分组成. 其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗. 用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下: 伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 理由：聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:离子源型号霍尔离子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC电压50-250V50-300V50-250V电流20A10A15A散射角度>45可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others气体流量5-100sccm高度6.0“直径9.7“水冷可选其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯东分子泵组 Hicube 80 Pro, 其技术参数如下：进气法兰氮气抽速 N2,l/s极限真空 hpa前级泵型号前级泵抽速 m³/h前级真空安全阀DN 40 ISO-KF35< 1X10-7Pascal 202118AVC 025 MA 运行结果：伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

2018-12-09 10:27:24全站仪用棱镜建站后可以直接切换到反射片模式吗?: 全站仪用棱镜建站后可以直接切换到反射片模式吗?

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