常规光刻技术 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-21 09:34:25常规光刻技术: 常规光刻技术是利用光学原理在半导体材料表面进行微细加工的技术。原理是通过掩模版、光源和投影系统，将电路图案精确复制到芯片上。广泛应用于半导体制造行业，用于生产大规模集成电路。该技术具有高精度、高效率、低成本等优点，对推动半导体产业发展具有重要意义。

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超高精度3D打印在微流控研究领域的应用

目前最普遍的微流控加工方式是基于SU-8光刻和PDMS翻模键合，首先采用SU-8光刻胶和常规光刻技术在硅基基底表面加工出具有微米精度、高深宽比的模具

 深圳摩方新材科技有限公司 477
2022-05-21
PμSL超高精度3D打印微流控常规光刻技术 SU-8光刻胶 PDMS微流控结构芯片

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常规光刻技术问答

2024-08-14 09:42:36阔口吸头与常规移液器吸头的区别: 　　阔口吸头与常规移液器吸头的区别　　在实验室操作中都是不可或缺的工具，但它们在设计和使用上存在着一些显著的区别。这些区别主要体现在吸头的形状、功能、使用范围以及在某些特定应用场景下的优势。下面跟随BUNSEN本生技术小编来了解下：　　1、从形状上来看　　阔口吸头与常规移液器吸头有着明显的差异。常规移液器吸头通常是的，这种设计使得吸头能够更地吸取和释放液体，尤其在需要控制液体量的实验中，如PCR、凝胶电泳等。而阔口吸头则具有更宽的开口，这种设计使得吸头在吸取粘稠或颗粒物较多的液体时更为方便，能够减少液体在吸头内部的残留，从而提高实验的准确性和效率。　　2、在功能上　　阔口吸头与常规移液器吸头也各有侧重。常规移液器吸头主要用于液体的转移和分配，适用于大多数常规实验。而阔口吸头则更适用于吸取粘稠液体、颗粒物或细胞等，如细胞培养、蛋白质沉淀等实验。在这些实验中，阔口吸头能够更有效地避免液体在吸头内部的残留，从而减少对实验结果的干扰。　　3、在使用范围上　　阔口吸头与常规移液器吸头也有所不同。常规移液器吸头通常适用于大多数移液器，具有广泛的通用性。而阔口吸头则可能需要根据不同的移液器型号进行选择，以确保其能够适配并正常工作。　　在某些特定应用场景下，阔口吸头相较于常规移液器吸头具有显著的优势。例如，在细胞培养实验中，由于细胞生长需要特殊的培养基和环境，因此液体的粘稠度和颗粒物含量较高。在这种情况下，使用阔口吸头能够更有效地吸取和转移细胞悬液，减少对细胞的损伤和污染风险。同时，阔口吸头还能够更好地适应不同形状和大小的容器，使得实验操作更为灵活和方便。　　然而，这并不意味着阔口吸头可以取代常规移液器吸头。在某些需要控制液体量的实验中，如PCR、凝胶电泳等，常规移液器吸头仍然是不可或缺的工具。因此，在选择使用阔口吸头还是常规移液器吸头时，需要根据具体的实验需求和应用场景进行判断和选择。　　总之，阔口吸头与常规移液器吸头在形状、功能、使用范围以及在某些特定应用场景下的优势等方面存在着明显的区别。了解这些区别并根据实验需求进行选择，有助于提高实验的准确性和效率，从而更好地推动科研工作的进展。

2022-04-26 11:15:33液液萃取法的常规: 常规的液液萃取方法使用分液漏斗，需要10-1000ml的液相（每一种）。对于一步萃取，为了获得较大的回收率（在某一相中达99%以上），分配系数KD必须大于10，因为相比（Vo/Vaq）必须保持在0.1-10之间。在大部分的分液漏斗的液-液萃取方法中，定量回收需要两次或更多次的萃取。如下式：E=1-[1/(1+KDV)]n式中，n是萃取次数。如果某一种物质的分配系数KD=5，两相的体积相等时（V=1），必须进行3次萃取（n=3）才能获得大于889的回收率。每一次萃取都使用新鲜的溶剂。一般来说，多次萃取与一次萃取相比具有较高的萃取效率。色谱分析中使用较多的是从水相中用与水不相溶的有机溶剂萃取有机物。通常使用的萃取器皿是分液漏斗。操作时应当选择容积较液体样品体积大1倍以上的分液漏斗，将分液漏斗的活塞擦干，薄薄地涂上一层润滑脂，塞好后再将活塞旋转数圈，使润滑脂均匀分布，然后放在萃取架上。关好活塞，将含有有机物的水样品溶液和萃取溶剂依次自上口倒入分液漏斗中，塞好塞子。一般情况下，溶剂体积约为样品溶液的30%-35%。为了增加两相之间的接触和提高萃取效率，应取下分液漏斗进行振荡。开始时摇晃要慢，每摇晃几次之后就要将漏斗下口向上倾斜（朝向无人处），打开活塞，使过量的蒸气逸出（也叫放气）。然后将活塞关闭再进行振荡。如此重复直至放气时只有很小的压力，再剧烈地摇晃3-5min后，将分液漏斗放回漏斗架上静置。待漏斗中两层液相完全分开后，打开上面的瓶塞，再将活塞慢慢地旋开，将下层液体自活塞放出。分液时一定要尽可能分离干净，有时在两相间可能出现的一些絮状物也立应时放出。然后将上层液体从分液漏斗的上口倒出，切不可也从活塞放出，以免被残留在漏斗颈上的种液体所玷污。将水倒回分液漏斗中，再用新鲜的溶剂萃取。萃取次数取决于在两相中的分配系数，一般为3-5次。将所有的萃取液合并，加入合适的干燥剂干燥后即可用于色谱测定。如果浓缩倍数不够，可将萃取液进行蒸发浓缩。

2023-06-14 16:49:45无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究，意大利: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一种典型的二维材料，也是电子器件的重要组成部分。研究者发现，当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用，使之具有良好的电学特性，可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点，不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外，电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响，进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能，但这些研究主要基于理论计算，缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。【成果简介】 2021年，意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件，在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性，发现在n通道的跨导输运被抑制，这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版，可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便，同时其还具备结构紧凑（70cm X 70cm X 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：

2023-06-29 10:11:54无掩膜直写光刻系统助力二维材料异质结构电输运性能研究，意大利科学家揭秘其机理！: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章链接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一种典型的二维材料，也是电子器件的重要组成部分。研究者发现，当MoS2与石墨烯接触会产生van der Waals作用，使之具有良好的电学特性，可广泛应用于各类柔性电子器件、光电器件、传感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯异质结构背后的电输运机理尚不明确。这主要是因为传统器件只有两个接触点，不能将MoS2-石墨烯异质结构产生的电学输运特性与二维材料自身的电学特性所区分。此外，电荷转移、应变、电荷在缺陷处被俘获等因素也会对器件的电输运性能产生影响，进一步提高了相关研究的难度。尽管已有很多文献报道MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能，但这些研究主要基于理论计算，缺乏对MoS2-石墨烯异质结构的电输运性能在场效应器件中的实验研究。成果简介2021年，意大利比萨大学Ciampalini教授课题组利用小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3 制备出基于MoS2-石墨烯异质结构的多场效应管器件，在场效应管器件中直接测量了MoS2-石墨烯异质结构的电输运特性。通过比较MoS2的跨导曲线和石墨烯的电流电压特性，发现在n通道的跨导输运被抑制，这一现象明显不同于传统对场效应的认知。借助第一性原理计算发现这一独特的输运抑制现象与硫空位相关。本文中所使用的小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3无需掩膜版，可在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。设备采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便，同时其还具备结构紧凑（70cm X 70cm X 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：