- 2025-01-10 17:03:33科学技术研究
- 关于“科学技术研究”，这是一项系统性的探索活动，旨在通过科学实验、理论分析和技术创新，深入探究自然规律、解决科学难题、推动技术进步。它涵盖了基础科学研究、应用技术研究及开发研究等多个层面，是科技创新和社会发展的核心驱动力。科学技术研究不仅增进人类对自然界的认识，还促进新技术、新产品的诞生，对社会经济、文化教育等领域产生深远影响。在仪器领域，先进的研究工具和方法不断推动科学技术研究向更深层次迈进。
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- 2022年基金委与土耳其科学技术研究理事会合作研究项目指南
- 根据国家自然科学基金委员会(NSFC)与土耳其科学技术研究理事会(TÜBİTAK)签署的合作协议及后续达成的共识，2022年双方将继续共同资助合作研究项目，以促进两国科学家之间的合作与交流。
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- 2021年国家基金委员会与土耳其科学技术研究理事会合作研究项目指南
- 2021年双方将共同资助跨学科合作研究项目，以促进两国科学家之间的合作与交流。
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- 上海支持开展关键核心设备研究 仪器行业有望得到大力扶持
- 上海印发《支持国家重大科技基础设施建设发展的若干政策措施（试行）》，包括六部分共14条措施。 推动设施多元化投资和高效建设，鼓励设施建设资金多元化融资。
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科学技术研究问答
- 2022-11-25 16:10:30离子束刻蚀（IBE）技术研究
- 离子束刻蚀（IBE）技术研究 1.离子束刻蚀（IBE）技术的原理？离子束刻蚀（IBE，Ion Beam Etching）也称为离子铣（IBM，Ion Beam Milling），也有人称之为离子溅射刻蚀，是利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。刻蚀过程即把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面轰击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。工件表面有制备沟槽的掩膜，最后裸露的部分就会被刻蚀掉，而掩膜部分则被保留，形成所需要的沟槽图形。离子束刻蚀使高方向性的中性离子束能够控制侧壁轮廓，优化纳米图案化过程中的径向均匀性和结构形貌。另外倾斜结构可以通过倾斜样品以改变离子束的撞击方向这一独特能力来实现。在离子束刻蚀过程中，通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。为了便于后面光刻胶的剥离清洗，一般需要对样品台进行冷却处理，使整个刻蚀过程中温度控制在一个比较好的范围。 图1 离子束刻蚀设备结构图图2 离子束刻蚀工艺原理图 2.离子束刻蚀（IBE）适合的材料体系？可用于刻蚀加工各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等材料。目前离子束刻蚀在非硅材料方面优势明显，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面具有广泛的用途。 3. 离子束刻蚀（IBE）技术的优点和缺点？a 优点： （1）方向性好、无钻蚀、陡直度高； （2）刻蚀速率可控性好，图形分辨率高，可达0.01um； （3）属于物理刻蚀，可以刻蚀各种材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻胶等）； （4）刻蚀过程中可改变离子束入射角来控制图形轮廓，加工特殊的结构；b 缺点： （1）刻蚀速率慢、效率比ICP更低； （2）难以完成晶片的深刻蚀； （3）属于物理刻蚀，常常会有过刻的现象。 4.反应离子束刻蚀（RIBE）技术简介及优点？反应离子束刻蚀（RIBE）是在离子束刻蚀的基础上，增加了腐蚀性气体，因此它不但保留了离子束物理刻蚀能力，还增加了腐蚀性气体（氟基气体、O2）离化后对样品的化学反应能力（反应离子束刻蚀：RIBE），也支持腐蚀性气体非离化态的化学辅助刻蚀能力（化学辅助离子束刻蚀：CAIBE），对适用于化学辅助的材料可以大幅度提升刻蚀速率，提高刻蚀质量。 5. 离子束刻蚀（IBE）的案例展示 典型应用：1、三族和四族光学零件2、激光光栅3、高深宽比的光子晶体刻蚀4、在二氧化硅、硅和金属上深沟刻蚀5、微流体传感器电极6、测热式微流体传感器
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- 2023-10-18 10:54:18试验仪器，让科学触手可及
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- 2022-10-15 17:15:47低场核磁技术研究硅胶老化
- 低场核磁技术研究硅胶老化由于硅胶制品的使用越来越频繁，硅胶产品在多数人的印象中是性能优异且各方面使用体验都很好，许多老客户也慢慢感觉到硅胶制品老化的现象，硅胶制品为什么会出现老化现象。硅胶产品为什么会出现老化？硅橡胶树脂的粘合性比许多橡胶都要高，但硅胶同其它橡胶一样，也会发生老化现象，由于内部分子链断裂，使硅胶的性能发生了很大的变化。对于橡塑制品来说，硅胶产品危害蕞大的就是紫外线，紫外线会直接导致橡胶分子链的断裂，这是因为硅胶制品可吸收光能使橡胶内产生自由分子。硅胶产品老化的原因主要有以下三点：1. 经常有高温或高温环境。高温度会加速硅胶材料的氧化环境，从而导致老化。2. 化学因素。归根结底，硅胶材料是一种化学物质，有些化学因素会加速其老化。3. 臭氧。硅材料很怕臭氧，会使硅胶制品的性能迅速下降，老化得很快。硅胶老化的试验方法：硅胶老化是硅胶性能受损的主要原因之一。由于产品的配方和使用条件各异，老化历程快慢不一，所以，需要通过检测技术对硅胶样品进行测试，以评定硅胶老化的程度及其对性能的影响。低场核磁技术可用于硅胶老化检测。低场核磁技术研究硅胶老化基本原理：低场核磁共振技术是通过测定恒定磁场强度下样品中1H的弛豫时间,从而获得分子结构动态信息的方法。其基本原理是通过施加射频脉冲给予处于恒定磁场中的样品,使氢质子发生共振,质子所吸收的射频波能量以非辐射的方式释放后返回到基态,此过程被称为弛豫过程。弛豫又可分为横向弛豫和纵向弛豫,样品内部氢质子所处物理化学环境及存在状态决定了弛豫时间的长短。从物理机制上,核磁弛豫过程是自旋氢原子核与环境之间通过相互作用进行能量交换的过程。核磁共振是自旋不为零的原子在静磁场中被磁化后,与特定射频场产生共振吸收现象,吸收射频脉冲能量后自旋核与周围物质相互作用,释放能量,并恢复初始状态过程。硅胶老化是交联体系发生变化的综合过程,核磁共振的弛豫机制对这种变化具有高敏感性,其主要表现为横向弛豫时间T2随反应时间延长的规律性变化。因此通过研究老化过程中硅胶样品的弛豫时间变化规律及其与老化性能的关系,就可以间接评估硅胶老化的特性。f
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- 2022-12-21 15:24:34低场核磁共振技术研究国产cmp研磨液
- 低场核磁共振技术研究国产cmp研磨液什么是cmp研磨液？CMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing，即化学机械抛光。该技术是半导体晶圆制造的比备流程之一，对高精度、高性能晶圆制造至关重要。抛光液的主要成分包括研磨颗粒、PH值调节剂、氧化剂、分散剂等。从成分中我们就大概知道了抛光液是一种对分散要求很高的纳米材料悬浮液，所以研磨过程中对颗粒的尺寸变化以及颗粒在悬浮液中的分散性都有着极其严苛的要求。低场核磁共振技术研究国产cmp研磨液低场核磁弛豫技术以水分子（溶剂）为探针，可以实时检测悬浮液体系中水分子的状态变化。低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子，当颗粒尺寸或颗粒分散性发生变化时，颗粒表面的溶剂分子也会发生相应的变化。低场核磁弛豫技术可以灵敏的检测到这这种变化状态和变化过程，从而可以快速地评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性和悬浮液中颗粒尺寸的变化过程。低场核磁弛豫技术与传统氮气吸附法有哪些差异？在低场核磁弛豫技术还未应用于抛光液领域之前，蕞常用的方法是用氮气吸附法来表征颗粒的比表面积。但是在实际的研发与生产过程中，研究人员发现就算氮气吸附法表征的研磨颗粒的比表面积非常稳定，抛光过程中还是会发生抛光液性能不稳定的情况。而这种情况很可能是研磨颗粒在溶剂体系中发生了团聚，进而发生了尺寸上的变化而导致蕞终研磨性能的问题。低场核磁弛豫技术可直接用于研磨液原液的分散性检测，可以快速评价悬浮液体系的分散性而被广泛应用于CMP抛光液的研发与生产控制中。低场核磁弛豫技术还能用于哪些领域？低场核磁弛豫技术除了用于半导体CMP抛光液，还可以用于国家正大力扶持的新能源电池浆料，光伏产业的导电银浆，石墨烯浆料，电子浆料等新材料领域。这些方向都非常适合采用低场核磁弛豫技术来研究其原液的分散性、稳定性。
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- 2022-09-04 20:25:27低场核磁技术研究湿颗粒团聚
- 低场核磁技术研究湿颗粒团聚颗粒的团聚根据其作用机理可分为三种状态：凝聚体：指以面相接的原级粒子，其表面积比其单个粒子组成之和小得多，这种状态再分散十分困难。附聚体：指以点、角相接的原级粒子团族或小颗粒在大颗粒上的附着，其总表面积比凝聚体大，但小于单个粒子组成之和，再分散比较容易。凝聚体和附聚体也称二次粒子。絮凝：指由于体系表面积的增加、表面能增大，为了降低表面能而生成的更加松散的结构。一般是由于大分子表面活性剂或水溶性高分子的架桥作用，把颗粒串联成结构松散似棉絮的团状物。在这种结构中，离子间的距离比凝聚体或附聚体大得多。颗粒在液体中的团聚与分散颗粒表面湿润性对粉体的分散具有重要意义，是粉体分散、固液分离、表面改性和造粒等工艺的理论基础。固体颗粒被液体润湿的过程主要基于颗粒表面的润湿性。固体表面的湿润性由其化学组成和微观结构决定。固体表面自由能越大，越容易被液体湿润；反之亦然。因而，寻求和制备高表面自由能的固体表面成为制备超亲水表面和超疏水表面的前提条件。低场核磁技术研究湿颗粒团聚的基本原理：对于润湿的颗粒体系，颗粒表面会附着一层液相分子，这些液相分子因无机相表面的吸附作用而运动受限。但未与颗粒相接触的液相分子运动是自由的，液相分子的驰豫时间（relaxation time）与它所处的运动状态密切相关，自由状态的液相分子的核磁驰豫时间要比束缚状态的液相分子的驰豫时间长得多，颗粒分散性更好的体系吸附溶剂量相对更多，弛豫时间也就更短。因此，可以利用低场核磁共振技术来测量悬浮液体系的驰豫时间，并计算颗粒的湿润比表面积（可利用的吸附表面积），进而用来研究颗粒的团聚状态、分散性稳定性、亲和性以及润湿性等问题。
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