2025-01-21 09:33:52IBE刻蚀

IBE刻蚀即离子束刻蚀，是利用高能离子束对材料进行精确刻蚀的技术。其基本原理是通过加速离子束撞击材料表面，使材料原子被溅射出来，达到刻蚀目的。IBE刻蚀具有分辨率高、刻蚀精度高、可加工复杂结构等优势，广泛应用于微纳加工、半导体制造、光学元件制造等领域。该技术能够制备出高精度的微纳结构，是现代微纳技术的重要组成部分。

资源：87个    浏览：18次展开

IBE刻蚀相关内容

• 全部
• 产品

IBE刻蚀产品

Ionfab 300 IBE 牛津离子束刻蚀机

国外 欧洲

面议

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

售全国

我要询价 联系方式

那诺-马斯特 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀

国外 美洲

面议

那诺—马斯特中国有限公司

售全国

我要询价 联系方式

那诺-马斯特 NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀

国外 美洲

面议

那诺—马斯特中国有限公司

售全国

我要询价 联系方式

离子束刻蚀机

国外 美洲

面议

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

售全国

我要询价 联系方式

离子束刻蚀机 NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀 那诺-马斯特

国外 美洲

面议

那诺—马斯特中国有限公司

售全国

我要询价 联系方式