- 2025-01-21 09:33:52IBE刻蚀
- IBE刻蚀即离子束刻蚀，是利用高能离子束对材料进行精确刻蚀的技术。其基本原理是通过加速离子束撞击材料表面，使材料原子被溅射出来，达到刻蚀目的。IBE刻蚀具有分辨率高、刻蚀精度高、可加工复杂结构等优势，广泛应用于微纳加工、半导体制造、光学元件制造等领域。该技术能够制备出高精度的微纳结构，是现代微纳技术的重要组成部分。
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