反射内存卡反射内存 - 产品信息 - 相关知识

2025-03-19 15:57:57反射内存卡反射内存: 反射内存卡（Reflection Memory Card）及反射内存技术是一种高性能的数据传输与共享解决方案。它利用专用的硬件和内存架构，实现不同计算机系统间的低延迟、高带宽数据通信。该技术常用于实时控制系统、仿真环境及高性能计算领域，确保数据的一致性和实时性，适用于对数据传输速度和同步性要求极高的应用场景。

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解读 PCIE 转 PMC 载板转接卡

美国进口VMIC反射内存卡GE公司测量和控制解决方案产业部在以传感器为基础的测量、检验、资产状态监测、控制和辐射测量解决方案的方面是一个领先的变革者，解决方案在广泛的行业里

 刘学民 24
2024-09-09
反射内存卡反射内存

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反射内存卡反射内存问答

2022-05-20 22:19:40明美透反射双光路数字切片扫描仪: 近年来，随着信息技术的快速发展，数字切片扫描已逐渐应用于医学教学、病理诊断、科研领域。目前市面上的数字切片扫描仪主要分为两类：箱式和显微镜式，两者对比的话优点各异，箱式的结构上会更简便，但功能相对比较单一；显微镜式的相当于是在普通显微镜上的升级改造，功能更加多样性。接下来我们介绍的是明美光电显微镜式数字切片扫描仪，它通过自主设计的光源与电子手轮，完整保留了传统显微镜的手动交互操作，在此基础上新增了切片全景扫描的功能，而且支持透反射双光路显微系统扫描，既可以扫描透明的病理切片，亦可以扫描不透明的地质矿石类标本，应用十分广泛。20X物镜病理切片全景扫描图（透射光路）20X物镜矿石标本全景扫描图（反射光路）明美数字切片扫描仪组成研究级正置显微镜机身，也可采用BX41、BX43、BX53等进口主机；标配透射光源，可选配反射照明模块。高精度电动平台，XY电动平台行程80*50mm，闭环定位精度0.5μm；Z轴闭环定位精度0.1μm，步进高帧率扫描相机，扫描帧率＞120fps，分辨率1920*1200，曝光时间＜7μs，由于标配的是双光路C接口，还预留一个接口可以用于安装大靶面显微相机，保留原显微镜单视野高分辨率拍照功能。快速无缝拼接系统，采用特殊优化的图像拼接算法，针对月牙形，U型等各种异形切片样品进行过拼接优化，能够在扫描成像后秒出无缝全局大图；15mm×15mm成像区域，10X物镜扫描成像速度丰富的切片图像管理功能，采用金字塔图像数据结构，在不同放大倍率的浏览需求下按需调用不同分辨率的图像，缩放浏览毫无卡顿感；提供API可获取图像数据底层Raw Data用于AI计算。扫描成像之前，应先通过显微镜阅片，快速确定切片是否可用于扫描以及需要扫描的区域（局部或全景），然后通过全自动显微镜系统扫描玻片采集得到高分辨率数字图像，再用计算机软件对这些图像自动进行无缝隙拼接和处理，并获得全视野数字化切片，可以自由观察切片的任意位置，进行无限倍率放大、缩小或连续变倍观察，这样既能看到切片全貌，又能从细微处观察病理变化，不再受镜下单一视野的局限。显微数字切片扫描仪的切片信息长期保存，实现了数字化、信息化、网络化，可以根据需求建立私有切片库，在没有显微镜和切片的条件下也能进行观察；在实际使用过程中，针对不同的工作目的，需要有取舍的来选择是采用传统显微镜观察模式还是采用扫描采图模式，才能发挥出显微数字切片扫描仪的技术优势。来源：https://www.mshot.com/article/1367.html

2020-09-16 09:41:32【课程推荐】KLA Instruments | Webinar课程：反射和透射：两个优于一个: 优尼康课程推荐KLA Instruments | Webinar课程：反射和透射：两个优于一个。※适合新老客户了解学习膜厚仪的使用；加深对产品的理解。 FILMETRICS同时测量光谱反射和透射对分析光学薄膜来讲是非常重要的。欢迎来到F10-RT独特的境界里。显然这会限制我们只能用透明基底材料，但这会让我们更准确地测量光学系数（特别是消光系数）。除五彩缤纷的介电薄膜外我们还会讨论上百纳米厚的金属薄膜。*点击“立刻注册”即可预约线上课程 Michelle Shi应用工程师 @KLA InstrumentsMichelle Shi 是KLA Instrument Group Filmetrics 光学轮廓仪以及薄膜测量仪的应用工程师。Michelle 于2019年5月加入KLA公司, 担任Filmetrics薄膜测量以及光学轮廓产品的应用，客户支持以及业务开发，主要支持Profilm3D光学轮廓仪以及Filmetrics全系列薄膜测量产品。在加入KLA之前，Michelle在美国俄亥俄大学获得物理学硕士学位并在NASA Ames硅谷研究ZX进行科学研究，以及在高新科技初创企业kaiaTech担任高级工艺工程师负责半导体薄膜材料的研发及新应用。

2020-10-16 11:46:53伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2: 伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜为了获取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射沉积技术镀制 Ta2O5 薄膜进行研究. 其系统工作示意图如下：该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双离子源、溅射靶、基片台等部分组成. 其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗. 用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下: 伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 理由：聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:离子源型号霍尔离子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC电压50-250V50-300V50-250V电流20A10A15A散射角度>45可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others气体流量5-100sccm高度6.0“直径9.7“水冷可选其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯东分子泵组 Hicube 80 Pro, 其技术参数如下：进气法兰氮气抽速 N2,l/s极限真空 hpa前级泵型号前级泵抽速 m³/h前级真空安全阀DN 40 ISO-KF35< 1X10-7Pascal 202118AVC 025 MA 运行结果：伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

2020-04-24 21:51:58AR增透抗反射减反膜基本原理瑞研光学: 减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。1）振幅条件膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。2）位相条件膜层厚度应为基准光的 1/4 波长。d=λ/4 λ=555nm 时，d=555/4=139nm对于减反射膜层，许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波（波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄（〈139nm),反射光会显出浅棕黄色，如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚（〉139nm）。镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射，但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色，但残留颜色哪种是Z好的，其实并没有标准，目前主要是以个人对颜色的喜好为主，较多为绿色的色系。我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同，因此在镜片ZY部分呈绿色，而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

2020-04-21 09:14:16显微镜的照明方式透射照明与反射照明（落射照明）: 透射式照明法分ZX照明和斜射照明两种形式：（1） ZX照明：这是Z常用的透射式照明法，其特点是照明光束的中轴与显微镜的光轴同在一条直线上。它又分为“临界照明”和“柯勒照明”两种。 A．临界照明（Critical illumination）:这是普通的照明法。这种照明的特点是光源经聚光镜后成像在被检物体上，光束狭而强，这是它的优点。但是光源的灯丝像与被检物体的平面重合，这样就造成被检物体的照明呈现出不均匀性，在有灯丝的部分则明亮；无灯丝的部分则暗淡，不仅影响成像的质量，更不适合显微照相，这是临界照明的主要缺陷。其补救的方法是在光源的前方放置乳白和吸热滤色片，使照明变得较为均匀和避免光源的长时间的照射而损伤被检物体。 B．柯勒照明：柯勒是十九世纪末蔡司厂的工程师,为了纪念他在光学领域的突出贡献,后人把他发明的二次成像叫做柯勒照明. 柯勒照明克服了临界照明的缺点，是研究用显微镜中的理想照明法。这中照明法不仅观察效果佳，而且是成功地进行显微照相所必须的一种照明法。光源的灯丝经聚光镜及可变视场光阑后，灯丝像*次落在聚光镜孔径的平面处，聚光镜又将该处的后焦点平面处形成第二次的灯丝像。这样在被检物体的平面处没有灯丝像的形成，不影响观察。此外照明变得均匀。观察时，可改变聚光镜孔径光阑的大小，使光源充满不同物镜的入射光瞳，而使聚光镜的数值孔径与物镜的数值孔径匹配。同时聚光镜又将视场光阑成像在被检物体的平面处，改变视场光阑的大小可控制照明范围。此外，这种照明的热焦点不在被检物体的平面处，即使长时间的照明，也不致损伤被检物体。2004年蔡司公司又在传统柯勒式照明基础上推出了带有反光碗的全系统复消色差照明技术，消除照明色差，增强光的还原性，进而提高分辨率，同时照明均匀而光效高。（2）斜射照明：这种照明光束的中轴与显微镜的光轴不在一直线上，而是与光轴形成一定的角度斜照在物体上，因此成斜射照明。相衬显微术和暗视野显微术就是斜射照明。 2．反射式照明这种照明的光束来自物体的上方通过物镜后射到被检物体上，这样物镜又起着聚光镜的作用。这种照明法是适用于非透明物体，如金属，矿物等。