等离子清洁仪 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 10:52:26等离子清洁仪: 等离子清洁仪是一种利用等离子体技术进行表面清洁的设备。它通过产生高能等离子体，与物体表面的污染物发生化学反应或物理轰击，从而有效去除油脂、灰尘等杂质，同时不会对物体表面造成损伤。该设备具备清洗效率高、适用范围广、处理均匀等特点，能够清洗微小缝隙和复杂结构，确保清洁度。等离子清洁仪广泛应用于电子、半导体、光学、航空航天等领域，为各种精密器件和材料的清洁度及性能提供保障。

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: 美国PIE出品的Tergeo EM型等离子清洁仪; 国外美洲; 面议; 南京覃思科技有限公司
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: GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪; 国内辽宁; 面议; 沈阳科晶自动化设备有限公司
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等离子清洁仪问答

2025-02-01 09:10:17如何清洁金相显微镜: 如何清洁金相显微镜：确保观察的必要步骤金相显微镜作为材料科学和工程领域的重要工具，广泛应用于金属、合金、陶瓷等材料的显微结构分析。为了确保显微镜的稳定性能和成像，定期清洁和维护显微镜是至关重要的。本文将详细介绍金相显微镜的清洁方法，包括设备的正确清洁步骤、使用的工具、清洁频率等，以帮助用户有效延长显微镜的使用寿命，同时确保每次观察结果的准确性。一、金相显微镜清洁的重要性金相显微镜的使用过程中，显微镜镜头、物镜、光学系统等部分容易积累灰尘、油渍或其它污染物，这些污染物不仅影响观察结果的精度，还可能造成设备损坏或功能衰退。保持显微镜的清洁，不仅能够提高成像效果，减少误差，还能有效防止设备老化，保障其长期稳定运行。因此，清洁金相显微镜不仅是维护设备的一部分，更是确保分析质量的重要步骤。二、清洁金相显微镜的基本步骤关机并拆卸可拆部分在进行任何清洁工作之前，首先要确保显微镜已经关闭并与电源断开连接。拆卸可拆卸部分，如物镜、目镜及其他附件，为后续清洁提供方便。使用气吹清除灰尘使用专用的气吹器对显微镜的镜头、物镜、目镜及其他光学部件进行吹气，去除表面灰尘和细小颗粒。气吹器应避免直接接触镜头，以免损伤表面镀膜。清洁光学部件对于有污渍或指纹的光学部件，建议使用专门的光学镜头清洁纸或镜头清洁布，轻轻擦拭。若清洁不彻底，可使用少量的镜头清洁液（务必选择不含酒精及其他溶剂的清洁液）进行处理，避免使用含有化学成分的溶剂，防止镜头镀膜损坏。清洁外部及非光学部分对于显微镜的外部框架、旋钮和其它机械部件，可以使用干净的软布擦拭，避免水分渗入电气部件。必要时，可以使用微湿的布轻轻擦拭。检查并调整机械部分在清洁完毕后，检查显微镜的机械系统，特别是焦距调整旋钮和载物台，确保它们的运动顺畅无卡滞。对于长期使用后可能出现的磨损部件，及时更换或维护。三、清洁金相显微镜的工具与材料气吹器：用于清除显微镜表面灰尘。镜头清洁纸/布：专用的光学清洁纸或超细纤维布，避免对镜头表面造成划痕。镜头清洁液：非酒精型的镜头清洁液，用于清除顽固污渍。软毛刷：用于清洁无法通过气吹器处理的小缝隙区域。软布和酒精：用于外部框架及其他非光学部分的清洁。四、金相显微镜清洁的频率金相显微镜的清洁频率取决于使用频率和环境条件。一般来说，建议每次使用后进行轻度清洁，特别是在镜头和光学部件上。如显微镜处于高灰尘或油污环境中，则需要更频繁地进行清洁。而在进行较长时间的实验后，应进行全面清洁，确保设备的良好运转。五、专业清洁技巧与建议避免使用纸巾：纸巾和普通布料可能包含细小颗粒，擦拭过程中容易划伤镜头表面。专用的镜头清洁纸和超细纤维布是更好的选择。保持清洁环境：为显微镜提供一个干净、无尘的工作环境，能大大减少清洁的频率和难度。定期检查设备状况：定期检查显微镜各部件的磨损情况，及时进行调整和维护，防止因机械问题影响清洁效果。结语金相显微镜的清洁不仅仅是保持设备外观的整洁，更直接关系到显微镜的成像质量和使用寿命。通过正确的清洁步骤和工具使用，可以有效地提升设备的性能，减少故障的发生。定期清洁并维护金相显微镜，确保每一次的观察都能提供可靠的数据。

2025-04-10 14:15:14气相色谱仪FID检测器清洁怎么做？: 气相色谱仪FID检测器清洁气相色谱仪（Gas Chromatograph，简称GC）作为一种广泛应用于化学分析领域的重要仪器，主要通过将样品气体分离并分析其成分来进行定性和定量检测。FID检测器（Flame Ionization Detector，火焰离子化检测器）作为气相色谱仪的核心组成部分之一，具有高灵敏度和广泛的应用范围。随着长期使用，FID检测器可能因积累的杂质和污染物而导致检测灵敏度下降或操作不稳定。因此，定期清洁FID检测器不仅能够延长设备使用寿命，还能保证分析结果的准确性和可靠性。本文将深入探讨气相色谱仪FID检测器的清洁方法及注意事项。 FID检测器的工作原理 FID检测器是气相色谱仪中常用的检测器之一，其原理基于样品通过火焰时，样品中的有机物会被氧化并释放出离子，这些离子被检测并转化为电信号。FID的灵敏度高，适用于检测各种有机化合物，尤其是在环境监测、食品安全、医药分析等领域中具有重要作用。FID的高灵敏度也使其易受污染的影响，若长时间不清洁，可能导致信号干扰，进而影响分析结果。 FID检测器污染的常见原因样品杂质：某些样品可能含有杂质或高分子物质，这些物质在火焰中燃烧后，可能会在检测器的电极和燃烧室中留下沉积物。化学反应副产物：样品中某些成分在燃烧过程中可能会生成有害的副产物，这些副产物可能在FID内部附着，形成污染源。操作不当：频繁更换样品、调节气体流速等操作不当，也可能导致FID检测器内部污染。 FID检测器的清洁方法定期检查与清洁：定期检查FID检测器的状态并进行必要的清洁。通常建议每使用一定量的样品后，进行简单的清洁，如清洗燃烧室和电极。清洗燃烧室：燃烧室是FID检测器中容易积累污染物的部分。清洗时可以使用专用的清洗液，避免使用强酸或强碱清洗液，以免对设备造成损害。使用清洁的气体（如氮气）吹净燃烧室内部，确保无残留物。更换电极：FID电极因长时间使用会逐渐受到污染或氧化，需要定期检查是否有结垢或损坏。如果发现电极表面不光滑或电流不稳定，应及时更换。清洁气体流量系统：FID的气体流量系统对分析结果至关重要。气体流量不足或过多可能导致分析信号的不稳定。定期检查气体的纯度和流量系统是否正常，确保气体系统的洁净和顺畅。使用标准化的清洁工具：清洁时使用专用的工具和溶液，避免使用非标准工具或腐蚀性强的清洁剂，以免损坏FID检测器的部件。 FID检测器清洁的注意事项避免频繁拆卸：拆卸FID检测器时需要特别小心，避免对检测器内部的细小部件造成损坏。拆卸时应严格遵循操作手册，确保所有零部件安全、正确地拆卸和组装。控制清洁频率：清洁频率应根据FID检测器的使用情况和样品类型决定。对于高污染样品或频繁使用的情况，应适当增加清洁频率。记录清洁日志：每次清洁操作后，建议记录清洁的时间、方法和检查内容，确保后续操作的可追溯性。结论 FID检测器作为气相色谱仪中的关键部件，保证其长期稳定运行对实验结果的准确性至关重要。定期清洁和维护FID检测器不仅能够延长设备使用寿命，还能提升分析结果的可靠性。通过科学、规范的清洁操作，避免污染物的积累，可以大程度地提高FID检测器的性能，为实验数据提供更高的准确性和稳定性。

2023-03-14 12:04:54等离子去胶机（Plasma Cleaner）: 等离子去胶机（Plasma Cleaner）为何要去除光刻胶？在现代半导体生产过程中，会大量使用光刻胶来将电路板图图形通过掩模版和光刻胶的感光与显影，转移到晶圆光刻胶上，从而在晶圆表面形成特定的光刻胶图形，然后在光刻胶的保护下，对下层薄膜或晶圆基底完成进行图形刻蚀或离子注入，最后再将原有的光刻胶彻底去除。去胶是光刻工艺中的最后一步。在刻蚀/离子注入等图形化工艺完成后，晶圆表面剩余光刻胶已完成图形转移和保护层的功能，通过去胶工艺进行完全清除。光刻胶去除是微加工工艺过程中非常重要的环节，光刻胶是否彻底去除干净、对样片是否有造成损伤，都会直接影响后续集成电路芯片制造工艺效果。半导体光刻胶去除工艺有哪些？半导体光刻胶去除工艺，一般分成两种，湿式去光刻胶和干式去光刻胶。湿式去胶又根据去胶介质的差异，分为氧化去胶和溶剂去胶两种类别。干式去胶适合大部分去胶工艺，去胶彻底且速度快，是现有去胶工艺中zui好的方式。一、等离子去胶机简述：氧等离子去胶是利用氧气在微波发生器的作用下产生氧等离子体，具有活性的氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应，使有机聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，从而达到去除光刻胶的目的，这个过程我们有时候也称之为灰化或者剥离。氧等离子去胶相比于湿法去胶工艺更为简单、适应性更好，去胶过程纯干法工艺，无液体或者有机溶剂参与。当然我们需要注意的是，这里并不是说氧等离子去胶工艺100%好于湿法去胶，同时也不是所有的光刻胶都适用于氧等离子去胶，以下几种情形我们需要注意：① 部分稳定性极高的光刻胶如SU-8、PI（聚酰亚胺），往往胶厚也比较大，纯氧等离子体去胶速率也比较有限，为了保证快速去胶，往往还会在工艺气体中增加氟基气体增加去胶速率，因此不只是氧气是反应气体，有时候我们也需要其他气体参与；② 涂胶后形成类非晶态二氧化硅的HSQ光刻胶。由于其构成并不是单纯的碳氢氧，所以是无法使用氧等离子去胶机来实现去胶；③ 当我们的样品中有其他需要保留的结构层本身就是有机聚合物构成的，在等离子去胶的过程中，这些需要保留的层也可能会在氧等离子下发生损伤；④ 样品是由容易氧化的材料或者有易氧化的结构层，氧等离子去胶过程，这些材料也会被氧化，如金属AG、C、CR、Fe以及Al，非金属的石墨烯等二维材料；市面上常见氧等离子去胶机按照频率可分为微波等离子去胶机和射频等离子去胶机两种，微波等离子去胶机的工作频率为2.45GHz，射频等离子去胶机的工作频率为13.5MHz，更高的频率决定了等离子体拥有更高的离子浓度、更小的自偏压，更高的离子浓度决定了去胶速度更快，效率更高；更低的自偏压决定了其对衬底的刻蚀效应更小，也意味着去胶过程中对衬底无损伤，而射频等离子去胶机其工作原理与刻蚀机相似，结构上更加简单。因此，在光电器件的加工中，去胶机的选择更推荐使用损伤更小的微波等离子去胶机。二、等离子清洗去胶机的工作原理：氧气是干式等离子体脱胶技术中的首要腐蚀气体。它在真空等离子体脱胶机反应室内高频和微波能的作用下，电离产生氧离子、自由氧原子O*、氧分子和电子混合的等离子体，其间氧化能力强的自由氧原子（约10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜发生反应：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后产生的CO2和H2O然后被抽走。三、等离子去胶机的优势：1、等离子清洗机的加工过程易于控制、可重复且易于自动化；使用等离子扫胶机可以使得清洗效率获得更大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点2、等离子扫胶机清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序，可以提高整个工艺流水线的处理效率；3、等离子扫胶机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；4、避免使用ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法；5、等离子去胶机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同，等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状；6、等离子去胶机在完成清洗去污的同时，还可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的润湿性能、改良膜的黏着力等，这在许多应用中都是非常重要的。四、等离子去胶的主要影响因素：频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影响：对于一定量的气体，功率大，等离子体中的的活性粒子密度也大，去胶速度也快；但当功率增大到一定值，反应所能消耗的活性离子达到饱和，功率再大，去胶速度则无明显增加。由于功率大，基片温度高，所以应根据工艺需要调节功率。真空度的选择：适当提高真空度，可使电子运动的平均自由程变大，因而从电场获得的能量就大，有利电离。另外当氧气流量一定时，真空度越高，则氧的相对比例就大，产生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高，活性粒子浓度反而会减小。氧气流量的影响：氧气流量大，活性粒子密度大，去胶速率加快；但流量太大，则离子的复合几率增大，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而下降。若反应室压力不变，流量增大，则被抽出的气体量也增加，其中尚没参加反应的活性粒子抽出量也随之增加，因此流量增加对去胶速率的影响也就不甚明显。五、等离子去胶机的应用：1、光刻胶的去除、剥离或灰化2、SU-8的去除/ 牺牲层的去除3、有机高分子聚合物的去除4、等离子去除残胶/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化处理6、表面沾污清除和内腐蚀（深腐蚀）应用7、清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架8、剥离金属化工艺前去除浮渣9、提高黏附性，消除键合问题10、塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能11、产生亲水或疏水表面

2023-07-20 16:48:04TOC清洁验证棉签推荐美迪科生物MPS-713：卓越的清洁验证助手: 在现代的科学研究、生产和实验室工作中，洁净度和准确性至关重要。针对TOC(总有机碳)验证的特殊需求，美迪科推出了TOC清洁验证棉签MPS-713。这款棉签具有极强的耐磨性和锁紧性能，为清洁验证工作提供了极大的便利和可靠性。　　该棉签的特点之一是其洁净室水洗设计。它采用双层针织涤纶材料制成，不含硅、氨和邻苯二甲酸二辛酯(DOP)，确保了高度的洁净度。无论是微生物取样还是纯化水的TOC取样，这款棉签都是专门为清洁验证而设计的，可满足各种验证要求。　　手柄采用浅绿色的聚丙烯材料制成，具有良好的耐化学性和抗溶剂锁紧能力。同时，手柄设计合理，易于折断，方便取样后的处理和保存。热粘合头的设计使棉签柔软无磨损，并且具有超低的不挥发物残留和低颗粒纤维生成，确保了取样的准确性和可靠性。　　除了优异的性能特点，美迪科TOC清洁验证棉签还注重产品的生产工艺和包装环节。它在100级洁净区内进行全程生产和包装，极大地降低了发尘量，确保了产品的洁净度。　　美迪科TOC清洁验证棉签的结构特点也非常值得一提。它的清洁头采用针织涤纶材质制成，具有干净耐磨的特性，可用于清洁验证工作的各个环节。拭子手柄采用刚性设计，并配备大型内部头部桨叶，提供了坚实的支撑，使棉签在使用过程中更加稳定和可靠。手柄还带有折断点，方便处理和保存样本，增加了工作效率。　　综上所述，美迪科TOC清洁验证棉签MPS-713是一款针对清洁验证工作而设计的专用棉签，具有强的耐磨性和锁紧性能。它采用洁净室水洗设计，不含有害物质，拥有良好的耐化学性和溶剂锁紧能力。该棉签在生产工艺和包装环节也经过精心设计，确保产品的洁净度。无论是用于微生物取样还是TOC取样，美迪科TOC清洁验证棉签都是您可靠的选择。

2023-06-05 13:43:36实验室二氧化碳培养箱的清洁方法: 培养箱必须先经过清洁才能实现消毒和灭菌的目的，许多杀菌剂只对经过清洁过的物品才具有杀菌活性。清洁时必须使用与以后使用的消毒剂或杀菌剂化学性质上相容的试剂进行清洁、消毒。　　①清洁箱体表面：先拂去表面的灰尘，再用湿的海绵或软布清洗，再用软布擦干。如果有污物则用低浓度的清洁剂清洗，然后擦干。　　②清洗箱体内部：选择合适的消毒剂。所有的物件和表面必须清洗，然后用无菌水冲洗，再擦干或晾干。　　③清洗玻璃门：清洗箱内的玻璃门时使用的清洁剂和清洗培养箱内部时使用的相同。然后用蒸馏水漂洗，从而清除残留的清洁剂，最后用软布把门擦干。　　二氧化碳培养箱的消毒和灭菌　　消毒是指杀死微生物的物理或化学手段，但不一定杀死其孢子。灭菌是指杀死所有微生物，当培养箱内细胞受到污染时则需要采取灭菌措施。一般，在培养箱内细胞没有污染的情况下平均1-3个月消毒一次。的3种消毒灭菌的方式是：液体消毒剂、紫外和加热。　　①液体消毒剂：选择对培养箱无腐蚀性的液体消毒剂，并且液体消毒剂的消毒效果好坏和很多因素有关。比如：场所的温度、接触时间、pH、穿透能力、有机物的反应。这些因素中的一些很小的变化可能会造成去污剂的效力上大的不同。因此甚至在很有利的情况下，当最终要求必须无菌时，液体去污剂也不是可信赖的去污方法。　　②紫外消毒：一般先用蒸馏水清洗干净后，再用培养箱自带的紫外灯照射一天或者用手提式的紫外灯照射。因被遮挡时或距离远时都会削弱紫外灭菌的效果，紫外灭菌方式较为简单。　　③加热：湿热和干热被认为是杀菌的方法。在一般环境下，高压灭菌器加热到121℃快速产生蒸汽是的方法，但是二氧化碳培养箱无法进行高温高压灭菌，只能退而求其次进行90℃湿热灭菌，但90℃因为温度过低，起不到100℃以上水蒸汽所带来的渗透性和高压力效果，所以灭菌效果也大打折扣.而干热140℃-180℃，可以起到灭菌的作用。

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