离子束研磨 - 产品信息 - 相关知识

2025-04-25 14:13:57离子束研磨: 离子束研磨是一种高精度的材料加工技术，利用聚焦的离子束对样品表面进行物理溅射，从而实现纳米级的研磨和抛光。该技术具有加工精度高、表面损伤小、可控性强等优点，广泛应用于半导体、光学元件、材料科学等领域的样品制备和表面改性。通过精确控制离子束的能量、束流和扫描路径，可以实现复杂形状和微小结构的精细加工。

离子束研磨相关内容

全部
资讯
文章
产品
问答

离子束研磨资讯

非聚焦离子束研磨为EBSD分析进行高质量样本制备

本文中，我们介绍了使用EBSD高效抛光两个通过非聚焦离子束研磨制备的高难度样本的案例。

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司 599
2022-08-16
电子背散射衍射技术（EBSD）非聚焦离子束研磨制备
离子束研磨制备电池组件横截面（锂电池与铅酸电池栅板）

锂电池组件分步制备方案——包括机械预处理和离子束抛光，并使用徕卡显微系统EM TXP 和 EM TIC 3X进行高质量扫描电镜分析。

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司 192
2024-08-22
非聚焦离子束研磨的实践应用

相比其他系统，它的挡板对齐方式也更适合我们的需求。使用EM TIC3X时，无需接触样本便可调整样品与挡板之间的相对位置，这一点对我们来说至关重要。

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司 341
2022-09-19
TEM样本制备技术 EM TIC3X
使用旋转样品台进行三离子束氩离子研磨，修饰岩盐中的晶界和亚结构

使用盐水或水的化学蚀刻，或着伽马辐照法，是暴露岩盐中晶界和亚结构的常用方法。本文中，我们提出使用徕卡EM TIC 3X旋转样品台，进行氩离子抛光和对比度增强，来修饰岩盐中微结构的方法。

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司 266
2022-11-06
旋转样品台三离子束氩离子研磨

离子束研磨文章

仪器介绍 | 徕卡TXP精研一体机

在传统的制样方法中，针对目标区域进行定点切割、研磨或者抛光等通常是一项耗时耗力困难的工作，因为目标区域极易丢失或由于目标尺寸太小而难以处理。针对此类样品，使用徕卡的精研一体机EM TXP可以轻易地处理

 广州领拓贸易有限公司 84
2025-01-13
徕卡精研一体机徕卡离子束研磨精研一体机

离子束研磨产品

产品名称

所在地

价格

供应商

咨询

: 离子束研磨仪 Leica EM RES102徕卡多功能离子束研磨仪; 国内上海; 面议; 上海纳腾仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 离子束刻蚀系统; 国外美洲; 面议; 北京华测试验仪器有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 离子束刻蚀机; 国外美洲; 面议; 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: Nano-Master离子束刻蚀系统NIE-4000; 国外美洲; 面议; 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 鼎竑 GU-AI8000 离子束研磨仪/离子束减薄仪; 国内江苏; ￥850000; 上海爱仪通网络科技有限公司
售全国; 我要询价联系方式

离子束研磨问答

2022-11-25 16:10:30离子束刻蚀（IBE）技术研究: 离子束刻蚀（IBE）技术研究 1.离子束刻蚀（IBE）技术的原理？离子束刻蚀（IBE，Ion Beam Etching）也称为离子铣（IBM，Ion Beam Milling），也有人称之为离子溅射刻蚀，是利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。刻蚀过程即把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面轰击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。工件表面有制备沟槽的掩膜，最后裸露的部分就会被刻蚀掉，而掩膜部分则被保留，形成所需要的沟槽图形。离子束刻蚀使高方向性的中性离子束能够控制侧壁轮廓，优化纳米图案化过程中的径向均匀性和结构形貌。另外倾斜结构可以通过倾斜样品以改变离子束的撞击方向这一独特能力来实现。在离子束刻蚀过程中，通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。为了便于后面光刻胶的剥离清洗，一般需要对样品台进行冷却处理，使整个刻蚀过程中温度控制在一个比较好的范围。图1 离子束刻蚀设备结构图图2 离子束刻蚀工艺原理图 2.离子束刻蚀（IBE）适合的材料体系？可用于刻蚀加工各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等材料。目前离子束刻蚀在非硅材料方面优势明显，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面具有广泛的用途。 3. 离子束刻蚀（IBE）技术的优点和缺点？a 优点：（1）方向性好、无钻蚀、陡直度高；（2）刻蚀速率可控性好，图形分辨率高，可达0.01um；（3）属于物理刻蚀，可以刻蚀各种材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻胶等）；（4）刻蚀过程中可改变离子束入射角来控制图形轮廓，加工特殊的结构；b 缺点：（1）刻蚀速率慢、效率比ICP更低；（2）难以完成晶片的深刻蚀；（3）属于物理刻蚀，常常会有过刻的现象。 4.反应离子束刻蚀（RIBE）技术简介及优点？反应离子束刻蚀（RIBE）是在离子束刻蚀的基础上，增加了腐蚀性气体，因此它不但保留了离子束物理刻蚀能力，还增加了腐蚀性气体（氟基气体、O2）离化后对样品的化学反应能力（反应离子束刻蚀：RIBE），也支持腐蚀性气体非离化态的化学辅助刻蚀能力（化学辅助离子束刻蚀：CAIBE），对适用于化学辅助的材料可以大幅度提升刻蚀速率，提高刻蚀质量。 5. 离子束刻蚀（IBE）的案例展示典型应用：1、三族和四族光学零件2、激光光栅3、高深宽比的光子晶体刻蚀4、在二氧化硅、硅和金属上深沟刻蚀5、微流体传感器电极6、测热式微流体传感器

2022-08-16 21:44:30福州大学离子束刻蚀机顺利验收: 福州大学离子束刻蚀机顺利验收烈日炎炎，热情满心间！后疫情时代，NANO-MASTER工程师步履不停，一站接一站为客户提供设备安装调试服务。首站福州大学，那诺-马斯特工程师已顺利安装验收NIE-3500型离子束刻蚀机！性能配置：离子束刻蚀机用于刻蚀金属和介质，z大可支持6”晶圆。配套美国考夫曼-罗宾逊 KDC160离子枪，650mA，100-1200V。刻蚀速率：~250A/min对Au；刻蚀均匀度：对4”片，片内均匀性优于±3%，重复性优于±3%。样品台可旋转，转速0-30RPM精确可控；可任意角度倾斜，支持斜齿刻蚀；带水冷功能，刻蚀后易去除光刻胶。极限真空12小时可达6x10-7Torr，15分钟可达10-6Torr量级的真空；采用双真空计，长期可靠，使用稳定。14”不锈钢立方腔体，配套一台主控计算机，20”触摸屏监控，配合Labview软件，实现计算机全自动工艺控制，并可在电源中断情况下安全恢复；完全的安全联锁；支持百级超净间使用。验收培训：安装调试视频：

2022-07-01 16:20:03液氮冷冻研磨机的低温研磨，具有哪些研磨特点: 液氮冷冻研磨机设备也就是我们所说的冷冻研磨机，它可是一款能够对多种样品进行研磨粉碎的样品前处理设备，比起传统研磨，该研磨设备可是给我们的样品研磨前处理实验带了很多的应用特点。液氮冷冻研磨机采用电磁碰撞振荡技术，利用电磁的往复高速驱动碰撞振荡冲击样品，使其动能惯性增大，实现大面积的高动能碰撞，以至于可高速冲击破碎样品，实现快速研磨，其对样品的研磨结果可比传统球磨机的更加精细，粉碎速度更快。在样品研磨粉碎的过程中，其样品是处于液氮温度下的，在低温下样品可变脆，再加上高速的来回撞击，可快速磨成粉末。像一些热敏性、任性较大的样品或是在室温下难于研磨的样品，都可采取此种方法进行研磨。把样品的装入密闭容器中，将其浸入液氮环境中；在低温环境下，采用电磁驱动钢撞击器对样品进行往复撞击，可使得样品迅速彻底粉碎。与传统研磨方法相比，具有研磨时间更短，研磨样品更精细的研磨特点。冷冻研磨机初了可对动植物样品组织中提取核酸、蛋白质和其他成分。另外，它还能粉碎酵母菌，培养动物细胞和细菌细胞，从而提取其样品成分；且该样品具有良好的重复性，其之间没有交叉污染，还可使样品研磨更加均匀、充分。除去这些，该研磨设备还能够高通量研磨样品，还适用于各种尺寸样品的研磨；可确保样品研磨的重现性、有效性和可比性，且对样品研磨的时间非常短，还适用于大批量样品同时研磨操作哦。

2023-02-01 17:28:41高通量组织研磨仪！助力生物样品研磨实验！: 　　有用户讲高通量组织研磨仪设备实验室用的少，其实主要是你没有看到，你往农业领域去看看，对种子等样品的研磨基本都是应用的高通量多样品组织研磨仪，说起这组织研磨仪，那就不得不提提他应用的特点有哪些了，真的是让人超助力！　　高通量组织研磨仪采用上下垂直高速振荡模式，可快速促进细胞快速破碎、细胞裂解、组织均匀，使样品研磨更加均匀；对样品研磨的重复性更好，样品间无交叉污染，节省时间和人工成本，是一种高通量、高效率、高效率的样品预处理技术。其还具有冷冻组件，可满足用户研磨和保存温度敏感样品的需求。　　　　高通量组织研磨仪仪应用性能：　　　　1、超高通量组织研磨仪一次可处理多个样品　　　　2、超高效率处理，利用垂直振荡研磨技术，可在短时间内完成困难样品研磨、均质　　　　3、高均一性，批量处理样品，程序化处理机制，均一性、重复性更好　　　　4、更人性化，可调角度彩色触摸显示屏，可编辑、调用、存储500种方法　　　　5、适用性广，程序可调，更多研磨瓶、研磨介质可供选择，完美契合不同样品研磨、混匀需求　　　　6、安全可靠，双重门锁，研磨过程更安全；设置保密程序，限制查看特定方法　　　　7、适用于对多种样品的干磨、湿磨、冷冻研磨　　　　8、分隔设计，使用封闭式的专用研磨罐或一次性的离心管，避免样品交叉污染。　　　　高通量组织研磨仪那独特的水平冲击研磨原理可使其样品的研磨效果更好；如果采用冷冻操作，样品研磨和核酸提取都没有问题；该高通量组织研磨仪的研磨范围广，使用封闭样品管不产生交叉污染，更安全，其样品的实验准确率更高。另外，该高通量组织研磨仪不只只是应用在农业领域，在生物医药、地质、法医、食品、冶金、化工、环境、质检、高校等各行各业均有应用，对生物样品的研磨，那也是可圈可点的。

2023-06-16 14:57:45【好词多“磨”】— 研磨的艺术系列: 每周知识小百科Weekly Share弗尔德每周知识小百科旨在分享材料科学领域的科普知识，探索未知，激发热情。每周一小步，材料科学发展一大步。Retsch研磨设备择合适研磨设备所需要考量的方向：样品的硬度和破碎表现研磨设备的材质一定要比样品硬度更高才能避免磨损。例如，石英砂样品可以用氧化锆但不能用玛瑙材质研磨。耐磨性耐磨性是物质的耐磨能力。氮化物和氮化硅就非常耐磨，同时样品的性质和进样尺寸也会影响设备耐磨性。研磨中的可能污染物理研磨过程中必然有磨损，因此研磨工具的材质一定要被考虑到是否会造成样品的污染和影响到后续分析（例如不锈钢可能会带入铬和镍元素，会影响重金属分析）陶瓷类（氧化锆，氧化铝，硬瓷，氮化硅）。能量输出球磨和振动盘磨仪的能级输出和研磨材质有密切关系，例如碳化钨的研磨球就会有很高的能量输出值，最终导致研磨效果很好。这是由于同样尺寸的研磨工具，密度高就会有更高的输出能值。土壤样品做铁、铬和钴元素的分析时，硬质钢和不锈钢材质都不适合选作研磨工具；水泥块样品做钙和二氧化硅分析时，不锈钢材质就很适合选作研磨工具；聚四氟乙烯、氧化锆、氮化硅和玻璃都可以做灭菌处理，因此都很适合做食品和微生物样品处理；医药产品可以选用陶瓷或玛瑙研磨工具以避免样品的污染。

离子束研磨资讯

离子束研磨文章

离子束研磨产品

离子束研磨问答

联系我们

关注我们