湖南微纳均质G160-12实验型高压均质机特点

湖南微纳均质G160-12实验型高压均质机是一款面向实验室、科研与小批量工业应用的高压均质解决方案。以稳定性、可重复性和工艺可追溯为设计核心，支持纳米粒径制备、均质乳化、分散等工艺的快速验证与条件优化。该机型具备模块化头件、友好的人机界面以及完备的安全与数据记录功能，便于在多学科场景下开展工艺研发与质量控制。

核心参数与数据要点

• 最大工作压力：160 MPa，满足常规纳米粒子制备与乳化工艺的实验需求；压力可分级设定，便于工艺窗口探索。
• 压力调节范围：20–160 MPa，支持以10 MPa为步进的细化调控，便于优化粒径分布与分散性。
• 单次处理体积：0.5–12 L，适用于小批量样品制备、工艺放大前的参数筛选与稳定性评估。
• 均质头类型与头径：提供多种换头方案，常用头径包括0.2 mm、0.5 mm、1.0 mm等可选，以覆盖不同黏度体系的微粒破碎需求。
• 传动与泵组：高压泵与头件为模块化组合，便于快速更换与清洗，减少换线时间。
• 电机与驱动：总功率约3.0 kW，配合变频控制实现平滑启动与稳定运行，噪声控制在实验室友好水平。
• 控制系统与数据化：配备触摸屏人机界面和PLC控制，支持工艺参数保存、批次编号追溯、CSV格式数据导出与日志记录。
• 冷却与温控：内置循环冷却系统，温控范围5–25°C，确保热敏性体系的温度稳定性。
• 材质与耐腐蚀性：机身与接触件采用316不锈钢等材料，具备良好耐腐蚀性，适应多种介质体系。
• 安全与认证：具备紧急停止、过载保护、泄漏报警等安全特性，符合CE认证和相关 RoHS 要求，适配实验室合规使用。
• 外形与安装：尺寸大致700×600×1200 mm，重量约420 kg；独立单元化设计，便于台面布置与日常维护。
• 电源与环境要求：标准动力电源220–240 VAC，50/60 Hz，室温作业环境下稳定工作。
• 介质兼容性：适合水相、油相及含表面活性剂体系的均质、乳化与分散工艺，需对高黏度体系进行前处理或预分散以提升均质效果。

产品特点概述

• 高效粒径控制：在合适的压力与头径组合下，粒径分布更窄、粒径可重复落在目标区间，适用于纳米材料研究与药物载体制备的工艺验证。
• 重现性强：参数可重复设置与记录，批次间工艺波动低，利于对比分析和工艺优化。
• 快速换头与维护便利：模块化头件设计支持快速更换，清洗与维护简化，降低停机时间。
• 数据可追溯：系统自动记录关键工艺数据，支持导出用于实验档案、质量评估和工艺学论文撰写的可溯源文档。
• 结构紧凑、可扩展：紧凑的机身布局配合可选的二次配套设备，便于在现有实验室环境中实现小规模工艺的快速搭建与扩展。
• 清洁与消毒友好：表面光洁、可清洗路径设计，满足生物药品与食品级应用的清洁需求。

典型应用场景

• 纳米粒子制备与粒径优化：通过可调压力和头径组合实现粒径分布的收敛控制，支撑研究型论文与工艺条件确定。
• 纳米乳液与分散体系的制备：高压均质降低粒子团聚，提高相分散稳定性，适用于药物载体和化妆品配方的初步制备。
• 物料表面活性剂体系的工艺验证：对不同界面活性剂体系的敏感度进行参数扫描，帮助确定最优工艺窗口。
• 研究型放大前评估：小批量样品在G160-12上完成初步工艺参数筛选，为后续中试放大提供可重复的数据基础。

场景化FAQ

• 问：G160-12适合处理哪些材料体系？答：适合水相、油相以及含表面活性剂的多相体系，对高黏度与复杂乳化体系需先进行预分散与温度控制后再进入高压阶段。
• 问：如何选择头径以获得目标粒径？答：以体系黏度、目标粒径和分散稳定性为参考，低粒径目标通常搭配较小头径（如0.2–0.5 mm），较大粒径或高黏度体系可选0.5–1.0 mm，必要时进行多轮分级均质。
• 问：温控对结果有何影响？答：热累积会改变黏度与界面张力，严格控制5–25°C的温区有助于稳定粒径分布和再现性，必要时在高产能阶段采用短时间分段加工并同步冷却。
• 问：如何进行日常清洗与消毒？答：关机前排空入口，使用清洁水或合规清洗剂进行冲洗，按材料相容性选择清洗剂；头件与泵区分步拆卸，防止密封件受损，完成后用无菌清洁流程再组装。
• 问：与其他均质技术相比，G160-12的优势在哪？答：在相对较短的时间内实现高压力下的粒径控制与粒分布稳定性，且数据化管理与模块化头件设计有利于快速参数筛选、工艺记录及实验室到放大的平滑过渡。
• 问：维护周期和易损件有哪些？答：常规易损件包括密封件与头件密封圈，建议按使用频率定期检查更换，头件在多批次使用后应进行清洗后再次验证紧密性以确保安全性与性能。

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