Laurell 匀胶旋涂仪 WS-650参数

1. Laurell WS-650匀胶旋涂仪核心特点

• 高精度转速控制：转速精度达±0.1%，薄膜厚度均匀性CV值≤1%，满足微纳加工对一致性的严苛要求
• 宽范围加速度调节：0～3000 RPM/s连续可调，适配低粘度光刻胶到高粘度聚合物的不同旋涂工艺
• 高稳定真空吸附：真空度≤1×10⁻³ Torr，自动吸附样品避免滑动偏差，兼容2/4/6英寸晶圆及异形样品
• 多程序高效切换：可存储≥20个自定义程序，每程序支持10段步骤（加速/恒速/减速），支持参数复制修改
• 低噪音紧凑设计：运行噪音≤55dB（A计权），机身尺寸300×300×400mm，节省实验室台面空间

2. 关键技术参数

3. 典型应用场景

• 半导体制造：IC芯片光刻胶旋涂、MEMS微传感器/执行器制备
• 微纳材料：PDMS/PMMA聚合物薄膜沉积、石墨烯/碳纳米管薄膜转移
• 光电领域：OLED有机发光层旋涂、量子点薄膜制备
• 生物医学：细胞培养载片胶原蛋白涂层、微流控芯片通道修饰
• 材料表征：薄膜厚度均匀性测试、表面形貌分析前样品制备

4. 操作维护要点

• 操作前确认真空度≥5×10⁻⁴ Torr，避免高速旋转样品脱落
• 旋涂后运行清洁程序（低速+溶剂冲洗），防止残留污染后续样品
• 每3个月检查真空管路密封性，真空度下降时更换密封圈
• 每6个月校准转速传感器，确保精度符合工艺要求

Laurell WS-650作为实验室级匀胶旋涂仪，以高稳定性、宽兼容性适配多领域微纳加工需求，是半导体、材料科学等行业的核心制备工具。