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应对AI算力散热革命:MLCP制造精密清洗解决方案

来源:深圳市洁盟清洗设备有限公司 更新时间:2026-01-16 10:00:23 阅读量:59
导读:应对AI算力散热革命:MLCP制造精密清洗解决方案


随着人工智能(AI)算力的爆发式增长,数据中心和高性能计算(HPC)硬件正迎来新时代。英伟达创始人兼CEO黄仁勋日前在CES 2026大会上发表主题演讲,正式宣布新一代旗舰AI计算平台Vera Rubin已进入全面量产阶段。根据公开报道显示,Rubin与下一代Feynman平台功耗或高达2000W以上,当前散热解决方案已无法满足需求。因此,英伟达向供应商要求,开发全新的微通道液冷板(MLCP)技术以应对更高热流密度。



MLCP制造的技术挑战


MLCP的技术核心在于通过在芯片封装内部嵌入50-150μm的微米级冷却通道,显著增加与冷却剂接触的内表面积,提供更优异的热交换性能。目前主流的技术路线包括金属3D打印、精密蚀刻、微铣削等。尽管各路线性能各异,但其共同的挑战在于如何构建高密度、精细的流道结构。


MLCP对比传统冷却板


传统液体冷却系统因管道尺寸远大于微通道,可允许一定尺寸微粒通过而不影响整体循环;而MLCP的通道尺度极小(50–150μm或更低),微粒、油污或残胶极易造成通道堵塞。


这类堵塞多由冷却液中尺寸超过50μm的颗粒物引起,颗粒来源包括加工残留、管路腐蚀产物及密封件老化脱落等。受限于极小的通道尺度,颗粒易在入口、弯折区等位置滞留,造成局部热阻上升、热斑形成,导致芯片性能减退或损坏。


MLCP常采用铜、铝或高热导性复合材料作为基板,并在其内部形成复杂的微通道结构。这些材料在加工过程中会产生:金属屑与细微氧化物;冷却液接触前的润滑油残留;焊接时产生的焊渣、松香残留;表面张力与微孔内形成的气泡与薄膜。任何此类残留物都会显著降低冷却流体流通均匀性与热传导效率,处理不当可能导致微通道表面形成微阻力区域,使得实际散热性能与设计值偏离。


因此,在MLCP的制造过程中,洁净度直接决定了微通道内部的流通顺畅性与散热界面稳定性,从而影响液冷系统的散热效率、运行可靠性及芯片适配安全性;而清洗效率则直接关乎制造成本控制和规模化量产的可行性,是衡量制造商核心竞争力的关键指标。


MLCP制造精密清洗解决方案


在此背景下,洁盟凭借多年在精密工业清洗领域的技术积淀,推出定制化MLCP制程清洗解决方案,为MLCP量产保驾护航。


精准控能,零损伤清洗

自研换能器搭配自动扫频追频技术,频率稳定性误差≤0.1kHz,可根据MLCP材质(铜/铝)、通道尺寸匹配超声/兆声功率,避免流道壁损伤;复频脉冲技术强化微通道内湍流效应,提升清洗均匀性。


多工艺协同,全场景适配

融合超声、兆声、真空碳氢、高压喷淋、纯水漂洗、氮气吹扫、真空干燥等多技术,针对MLCP各制程污染物定制组合方案;采用高等级去离子水体系,多级漂洗去除离子与化学残留,降低电化学腐蚀与长期可靠性风险。


环保合规,降本增效

配备精度<5μm的闭环过滤系统,实时过滤清洗液中的杂质,使化学液回收率达80%以上,降低耗材成本;同时集成废水处理模块,对废液中的金属离子与有机物进行深度处理,符合ISO 14001等环保标准,实现临“零”排放生产。


智能量产,全程可控

配备PLC+人机界面全流程自动控制系统,支持对接客户MES系统,支持工艺参数存储、追溯与调用;搭载在线电导率、pH值、浓度等传感检测系统,实时监控清洗介质状态,实现“清洗-检测”一体化管控。


依托在多工艺协同和智能控制上的深度协同创新,洁盟构建起覆盖预处理、超/兆声清洗、漂洗干燥及洁净度监测的MLCP全流程清洗解决方案。该方案凭借独特的无损超声清洗技术以及对MLCP微米级通道污染物清除的深刻理解,在清洗洁净度与生产效率上实现了质的飞跃。


如需了解方案详情或获取定制化报价,可联系洁盟官方客服,我们将为您提供一对一技术咨询服务。


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