八氟丙烷(C3F8)作为含氟电子特种气体之一,因其良好的化学和热稳定性、较低的大气寿命和更有效的蚀刻/清洗性能而广泛应用于半导体和集成电路制造领域。然而工业上C3F8的生产通常伴随着六氟丙烯(C3F6)杂质,无法满足集成电路制造领域对C3F8的纯度要求。由于C3F8和C3F6具有非常相似的物理和化学性质,以及接近的分子尺寸,生产高纯度的C3F8是一个充满具有挑战性和复杂性的过程。工业上通常采用精馏方法进行C3F6/C3F8分离,但其能耗大,设备投资高。相比之下,吸附分离技术具有优势。
图1. (a) 具有均匀的窄通道的分子筛分吸附剂分离选择性高,但吸附容量低;(b)孔径大的吸附剂吸附容量高,但分离选择性低;(c)笼状MOF的氟化孔隙工程策略,有望解决吸附容量和选择性选择性之间的权衡问题
图4.(a) Zn-bzc-CF3中C3F6的Z佳吸附构型;F···H-C的距离为2.15-3.80 ? (红色虚线),F···F的距离为2.53-3.53 ? (绿色虚线);(b) Zn-bzc-CF3中C3F6吸附的独立梯度模型分析。
论文信息:
Fluorinated MOF-Based Hexafluoropropylene Nanotrap for Highly Efficient Purification of Octafluoropropane Electronic Specialty Gas
Mingze Zheng, Wenjuan Xue, Tongan Yan, Zefeng Jiang, Zhi Fang, Hongliang Huang,* Chongli Zhong,*
Angewandte Chemie International Edition
DOI: 10.1002/anie.202401770
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