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赛默飞iCAP Q ICP-MS特点

来源:赛默飞色谱与质谱中国 更新时间:2026-04-08 15:45:02 阅读量:22

一、核心技术架构与干扰消除

赛默飞iCAP Q采用三重四极杆(QqQ) 设计,通过三级离子过滤实现精准分析:

  • Q1前置四极杆:预过滤目标质量数离子,减少杂散离子干扰;
  • Q2碰撞/反应池(CRC):搭载动能歧视(KED)技术,注入He气与离子碰撞,利用动能差异分离干扰离子(如ArO⁺干扰Fe⁵⁶、ArCl⁺干扰As⁷⁵),干扰抑制率达99%以上;
  • Q3分析四极杆:二次质量过滤,确保目标离子纯度,避免背景污染。

二、关键性能参数(官方典型值)

指标类型 具体参数(1ppb浓度下)
灵敏度(cps/ppb) Li⁷≥2.0×10⁶;Y⁸⁹≥5.0×10⁶;In¹¹⁵≥5.0×10⁶;U²³⁸≥5.0×10⁶
背景等效浓度(BEC,ppb) Li⁷<0.01;Co⁵⁹<0.001;In¹¹⁵<0.001;U²³⁸<0.001
检出限(DL,ppt) Li⁷<0.1;Co⁵⁹<0.01;In¹¹⁵<0.01;U²³⁸<0.01
同位素比值精度(RSD) ¹⁰⁷Ag/¹⁰⁹Ag <0.1%(n=10);²⁰⁶Pb/²⁰⁷Pb <0.2%(n=10)
线性范围 10¹⁰(覆盖ppt→ppm量级)

三、行业典型应用场景

  1. 环境检测

    • 饮用水中As、Hg、Pb痕量分析(符合GB/T 5750-2023);
    • 土壤稀土元素总量测定(支撑生态环境部土壤普查);
    • 海水复杂基体中痕量重金属直接分析(无需预分离)。
  2. 食品与医药

    • 食品接触材料迁移元素(Cd、Cr)检测(满足GB 4806.1-2016);
    • 药物杂质(Pd、Pt)限量分析(符合USP<233>、EP<2.2.58>)。
  3. 科研与工业

    • 地质样品U-Pb年代学测定(精度达0.1% RSD);
    • 半导体硅片超痕量杂质(Fe、Cu、Ni)分析(DL<1ppt)。

四、行业竞争力优势

对比传统单四极杆ICP-MS:

  • 干扰抑制:提升5-10倍,可直接分析废水、海水等复杂基体;
  • 同位素精度:提升2-3倍,适配同位素示踪实验;
  • 操作效率:全自动调谐(<5分钟),减少人为误差;
  • 线性范围:扩展1个数量级,减少样品稀释步骤。

该仪器凭借高灵敏度、低干扰及宽线性范围,成为实验室痕量元素分析的核心工具,覆盖多行业合规检测与科研需求。

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