湖南微纳的G150-2000生产型高压均质机,定位于需要稳定高压分散与批量化生产的场景,覆盖从实验室放大评估到生产线日常运行的需求。设备以高压均质、剪切与高效冷却为核心,适用于食品、药品、化妆品、化工与纳米材料等领域的乳液、分散体系和胶体制备。下文以参数、型号、特点等数据化要点呈现,便于选型、采购与现场验证。
核心参数与型号要点
- 型号与定位:G150-2000,生产型高压均质机,面向中高产能场景的连续处理。
- 高压范围:150–2000 bar,覆盖从粗糙分散到亚微米级分散的工艺需求。
- 入口流量与处理能力:典型配置可实现0.5–50 L/h的连续处理(实际值随介质粘度、目标粒径而定,出厂单以最终参数为准)。
- 主机功率与驱动:22–90 kW级别的主机功率区间,配合可选的变频控制以实现压力和流量的平滑调节。
- 温控与介质循环:具备闭环温控,介质温度控制在室温至60°C之间,具备外循环冷却与夹套冷却两种实现方式。
- 材料与表面处理:内部为316L不锈钢,关键接触表面经抛光处理,Ra通常达到0.4–0.8 μm级别,耐腐蚀性能良好。
- 控制系统:PLC+触摸屏HMI,带数据记录、趋势分析、联网接口,支持自定义工艺参数存档。
- 自动化与安全:具备压力闭环控制、过载保护、紧急停机、泄压保护等多重安全措施,符合生产级别工艺要求。
- 清洗与消毒:支持CIP/SIP兼容,具备清洗通道与高温灭菌选项,便于高标准生产线的卫生管理。
- 尺寸与重量:外形尺寸大致在1200×900×1700 mm级别,净重约900 kg,具体以出厂配置为准。
- 接口与扩展性:提供常用阀头、喷嘴、腔体等模块更换接口,便于工艺切换与快速改型。
- 认证与标准:遵循常见的ISO/CE等行业标准,出厂附带合格证与工艺参数文档。
设备特征与应用要点
- 稳定性与重复性:高压闭环控制实现压力波动小于±1%,适合对粒径分布有严格要求的工艺。
- 介质适配性:可处理水相、油相及多相乳液,尤其在高粘度体系中通过优化头部和腔体实现稳定分散。
- 模块化设计:模块化头部与腔体设计,方便更换、维护与工艺切换,降低停机时间。
- 能耗与噪音:选用高效驱动与传动系统,结合合理的冷却策略,噪音与能耗控制在行业常规水平内。
- 维护与售后:结构清晰、易于拆装,易损件如密封件、头部密封圈等更换周期可通过维护计划覆盖。
- 适用行业与场景:从药品辅料的均质化到化妆品乳化、食品稳定性提升及纳米级分散,均可嵌入现有生产线或做为放大验证设备。
典型配置与场景化选型建议
- 实验室放大验证场景:选择接近低流量、较高压端的配置,强调系统稳定性、数据记录与清洗便捷性。
- 产线连续生产场景:倾向中高流量、强力冷却与高效自动化控制,关注头部系列的更换便利性和SOP落地能力。
- 高粘度体系与高致密乳化:优先选用可定制的腔体与喷嘴组合,确保压力分布均匀、剪切稳定,配合温控策略实现热量管理。
场景化FAQ
- G150-2000适合哪些应用场景?可用于药品、食品、化妆品及化工领域的乳液、纳米分散、胶体制备等工艺,尤其在需要稳定粒径分布和高通过量的场景表现良好。
- 如何判断需要的高压范围?压力越高,粒径分布越窄、粒径越小,但对介质粘度、温控、头部设计要求越高。建议从目标粒径和工艺温控出发,结合样品试制数据确定区间。
- CIP/SIP如何落地?设备设计时预留清洗路径,材料、密封件均选用耐高温清洗材料,支持高温消毒和常规清洗药液的兼容性,按SOP执行即可。
- 安装与调试的要点有哪些?需提供稳定的气源/水源与冷却水,确保地面平整、螺栓定位牢固,调试阶段重点验证压力闭环、温控响应与清洗路径通畅。
- 维护周期与易损件?密封件、阀头密封、喷嘴等易损件需结合工艺和运行时间制定维护计划,模块化部件便于快速更换。
- 常见故障及排除办法?压力波动、流量异常、温控报警等问题,首选排查传感器/阀头密封、管路泄漏及冷却系统条件;必要时联系厂家远程诊断。
- 数据记录与远程诊断?HMI与PLC具备工艺参数记录与导出功能,支持本地存储与网络上传,便于工艺追溯与远程技术支持。
- 选型与报价通常包含哪些内容?需要的参数越完整,报价越准确;通常包括高压范围、处理量、头部与腔体选型、温控方式、控制系统配置、清洗方案、交货期与售后服务条款。
如果需要,我可以基于贵单位实际介质、目标粒径和产能要求,给出更精确的示例配置单、工艺参数表以及试样验证计划,帮助对比不同版本的性价比和上线时间。
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