hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板

华中某实验室采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE制作面阵石英 DNA芯片模板.

Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:

v:shapes="_x0000_i1025">

Hakuto 离子刻蚀机 10IBE  离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数：

Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

采用 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作的芯片模板较其他手段制作的同类器件而言, 其表面微结构形貌上的特点更有利于DNA序列样本与芯片模板的吸附耦合.

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!