Europlasma 超薄等离子涂层设备
Europlasma 无卤素等离子涂层设备
Europlasma 卷绕式等离子涂层设备 CD 2400
聚对二甲苯涂层设备 LAVIDA 聚对二甲苯涂层设备
Diener 聚对二甲苯涂层设备 P120D
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Europlasma 等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 1200 PLC
上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 1200 PLC, 操作简单, 等离子腔容积 490 L , 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 等离子涂层设备操作简单.
Europlasma 等离子涂层设备( 无卤素涂层) CD 1200 PLC 参数
腔室 | 材料: 铝 |
真空度测量 | 皮拉尼真空计 |
真空泵 | 干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时 |
频射发生器 | 根据客户应用需求定制 |
控制系统 | PLC 可实现下列功能 |
电源 | 380V AC, 三相, 50Hz, 40A |
反应气体 | 一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC） |
气体输入 | 直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar |
尾气排放 | 直径 28mm 输出端口 |
性能 | 急停开关; 真空泵保护锁; 高温保护锁; CE认证. |
Europlasma 纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:
1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等
2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等
3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品
4. PCB 元器件
5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士
报价：面议
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VIM-2 优势: 10 mbar（暖容器）~ 5×10⁻⁷ mbar（低温容器） 锂电池供电（>3 小时续航），蓝牙/Win 端远程操作 无电子穿透真空，抗腐蚀（1.4404/1.4034 不锈钢） <1% 年漂移率，无需校准 1s 响应（快模式），内置 1023 组数据记录 1 个读数头可匹配多个传感器，降低部署成本
超高精度：0.1 mbar至1×10⁻⁶ mbar范围内达读数±1% 100%线性压力读数（与气体种类无关） 长期稳定性：年漂移率<1.5% 不锈钢传感器抗腐蚀与沉积 安全洁净测量：无污染/无热辐射/无电离效应
润滑油
伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
上海伯东日本原装进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 内部使用美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 产生轰击离子; 终点检出器采用 Pfeiffer 残余质谱监测当前气体成分, 判断刻蚀情况.
Aston™ 特性 实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝 半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据 采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用 可与大批量生产工具完全集成 Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
营业执照已审核
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