KRI 考夫曼离子源

KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域 离子清洗, 显微镜抛光 IBP 溅镀和蒸发镀膜 PC 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD 表面改性, 激活 SM 离子溅射沉积和多层结构 IBSD...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内. 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, ...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 1...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻. 尺寸: 直径= ...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, ...

上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, m a x离子束流 > 1000mA, 满足...

KRI Ion Source 应用领域： 无栅极等离子源技术 ----End-Hall 离子/等离子源 有栅极离子源技术 ----RFICP 离子源 ----DC 离子源 电子源技术 -...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸zui小, 低成本GX离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eH 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合大中型真空系统. 通常应用...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列Z大,离子能量Z强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,Z大电流超过...

KRI 射频离子源 RFICP 40 上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸Z小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的...

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸Z小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗....

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 Z适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上Z 高效, 提供较高离子束流的离子源. 尺寸: 直径= 9....