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上海伯东代理 KRI 霍尔离子源 eH 1000
- 品牌:美国KRI
- 型号: eH 1000
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 伯东企业(上海)有限公司 更新时间:2024-03-27 15:06:09
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企业性质授权代理商
入驻年限第10年
营业执照已审核
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因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
KRI 霍尔离子源 eH 1000
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最/大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
• 等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:型号
eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO
供电
DC magnetic confinement
- 电压
40-300V VDC
- 离子源直径
~ 5 cm
- 阳极结构
模块化
电源控制
eHx-30010A
配置
-
- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 离子束发散角度
> 45° (hwhm)
- 阳极
标准或 Grooved
- 水冷
前板水冷
- 底座
移动或快接法兰
- 高度
4.0'
- 直径
5.7'
- 加工材料
金属
电介质
半导体- 工艺气体
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安装距离
10-36”
- 自动控制
控制4种气体
* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:
• 离子辅助镀膜 IAD
• 预清洗 Load lock preclean
• 预清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
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- 产品优势
- 上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制
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