上海伯东KRI 考夫曼离子源 RPICP 140

KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion Source

KRI Ion Source RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适合于离子束溅射沉积、离子辅助沉积和离子束刻蚀。在离子束溅射工艺中，离子源配有离子光学元件，可以很好的控制离子束去溅射靶材，实现wan美的薄膜特性。同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中，**的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务。就标准的型号而言，可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度。

KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 140产品详细参数

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