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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
- 品牌：美国KRI
- 型号： KDC 10
- 产地：美洲 美国
- 供应商报价：面议
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伯东企业（上海）有限公司
更新时间：2024-07-17 15:03:36 -
销售范围售全国
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品KRI 考夫曼离子源(49件)
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产品特点
- KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE 详细介绍
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数型号
KDC 10
供电
DC magnetic confinement
- 阴极灯丝
1
- 阳极电压
0-100V DC
- 栅极直径
1cm
中和器
灯丝
电源控制
KSC 1202
配置
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- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
- 架构
移动或快速法兰
- 高度
4.5'
- 直径
1.52'
- 离子束
集中
平行
散设-加工材料
金属
电介质
半导体-工艺气体
惰性
活性
混合-安装距离
2-12”
- 自动控制
控制4种气体
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
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M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
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