在半导体晶圆的划片槽中，在 MEMS 复杂的悬臂梁上，亦或是 Micro-OLED 极微小的像素点内…… 您是否曾因为测量光斑太大，无法精准定位而感到头疼？ 您是否厌倦了传统光纤探头的“盲测”，渴望拥有一双能看清微观世界的“慧眼”？

今天，悉识科技（AcuiTik）正式交出答卷—— 全新 NS-Micro 显微膜厚测量系统，重磅发布。

01 什么是 NS-Micro？

NS-Micro是悉识科技专为“微小区域（Micro-spot）”膜厚测量打造的显微光谱系统。

它不是一台冷冰冰的独立设备，而是一个可以无缝集成到您现有显微镜上的“超级大脑”。它继承了 NS-20 系列强大的算法基因，通过标准 C 接口（C-Mount）与显微镜完美融合，将光谱分析能力带入微米级视界。

简单来说，它让您的显微镜，不仅能“看”清形貌，更能“测”出厚度。

02 核心亮点：为什么选择 NS-Micro？

微米级光斑，极致精细告别毫米级光斑的粗放，NS-Micro 的测量光斑大小仅取决于您的物镜倍率。 配合高倍物镜，测量光斑可小至 1 μm。无论是带有精细图案的 Patterned Wafer，还是微流控芯片的内部涂层，都能轻松应对。

所见即所得，拒绝盲测NS-Micro 集成了高分辨率 CMOS 相机，通过PolarX 软件的“视频视图”功能，实时呈现样品表面图像。十字准星指哪里，光谱就测哪里。可视化定位，让每一次测量都确信无疑。

无损改装，广泛兼容无需淘汰您昂贵的金相显微镜！ NS-Micro 采用标准模块化设计，完美适配Olympus、Nikon、Leica、Zeiss等主流品牌的金相或立体显微镜。即插即用，低成本升级，让老设备焕发新生。

高倍率算法修正 (NA Correction)显微测量中，高倍物镜的大数值孔径（NA）往往会导致入射角偏差。 NS-Micro 内置专用的NA 修正算法，智能补偿大角度入射带来的光程差，确保在 50X、100X 高倍物镜下，依然能获得亚纳米级的测量精度。

03 它可以应用在哪里？

NS-Micro 的诞生，为以下高精尖领域提供了全新的测量方案：

??半导体制造

图形化晶圆：直接测量划片槽（Scribe Line）内的氧化物/氮化物薄膜。

光刻工艺：监控微小图形上的光刻胶厚度。

??新型显示

Micro-OLED/LED：精准测量像素点内的 ITO 阳极或 TFE 封装层。

面板结构：分析黑矩阵间隙中的彩色滤光片（CF）厚度。

??微流控与 MEMS

生物芯片：穿透盖板，测量微通道内部的疏水涂层（如 Parylene）。

MEMS 结构：无损测量悬臂梁、深槽底部的绝缘层。

??医疗器械

血管支架：监控药物洗脱支架表面的超薄药物涂层。

微细管材：测量导丝等曲面微小样品的表面镀层。

04 依然是您熟悉的 PolarX

NS-Micro 沿用了悉识科技广受好评的PolarX 分析软件。

一键测量：友好的交互界面，新手也能快速上手。

强大算法：FFT 厚膜算法 + 拟合薄膜算法，覆盖 nm 至 μm 级全量程。

数据互通：与 NS-20/OEM 共享材料数据库，研发到产线无缝衔接。

05 立即体验微观测量的魅力

NS-Micro 现已开放咨询与演示！如果您正在为微小区域的膜厚测量感到困扰，欢迎联系我们，悉识科技应用工程师将为您提供免费的样品测试服务。