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标旗光谱质检设备助力碳化硅(SiC)产业发展

来源:广州标旗光电科技发展股份有限公司 更新时间:2025-12-15 16:15:23 阅读量:30
导读:光谱无损快检助力破解AR光波导测试难题
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图片来源于网络

随着人工智能技术的迅猛发展,AI的快速发展为SiC提供了从基础设施到终端设备的多维度需求,而SiC的技术优势则支撑了AI硬件向更高效率和更小尺寸演进。AR眼镜作为AI端侧落地的核心载体,AI眼镜正从实验室走向消费电子市场。SiC作为第三代半导体材料,凭借其高折射率、高热导率及轻量化特性,成为突破AI眼镜光学显示与散热瓶颈的关键材料。


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SiC材料


SiC材料在AR眼镜应用中的检测重点主要围绕光学性能、机械性能、热性能及可靠性四个维度展开,核心目标是验证其作为AR波导基底的技术可行性与量产稳定性。而光学性能检测决定其显示效果的核心指标,主要测试光透过率和吸收损耗。通过精确测量其透过率、反射率、吸收率,以及全区域的均匀性与重复性,才能有效管控光波导的传输效率、图像质量与生产一致性。




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AR眼镜 

标旗光电专门研发AM-450光学元件光谱分选仪,可为AR光波导、半导体晶圆片等提供多维度光学表征解决方案。一台设备支持多点多角度透过、反射、偏光等批量自动测量,实现快速质检、分级。

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谱图

光损耗OL趋势图


AM-450光学元件光谱分选仪  



晶圆级检测


传统检测6寸、8寸晶圆,标旗光电AM-450光学元件光谱分选仪实现12寸晶圆快速检测。自主光路系统,可水平摆放样品,轻松实现12寸晶圆的多点多角度透反射率快速测量,同时可进行晶圆mapping检测。

可按需定制料盘

晶圆mapping图


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45度Rs,Rp,Ts,Tp光谱图             





膜厚检测


标旗光电膜厚光谱测量仪可快速无损测量硅片、晶圆芯片的膜层厚度,测量准确度达1nm,可分析单层或多层膜厚,最多可至6层薄膜,广泛应用于半导体、工业生产中。

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硅片
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晶圆芯片
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膜厚测量谱图         





展望未来,随着半导体企业持续推进大尺寸晶片降本与产业链协同,碳化硅有望加速AR眼镜向高性能、轻薄化方向普及,而标旗光电光谱分析仪将在行业的高速发展中提供适应不同环节的质检方案和设备,助力产业发展。





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