NANO-MASTER的大基片清洗机(LSC)是一个独立式的兆声清洗系统，可支持高达21"OD的基片。相较SWC可通过触摸屏实现更好的控制，且允许操作人员、工程师、维护人员等访问权限。LSC具有与SWC相同的兆声清洗技术和化学液清洗。LabView控制和更大工艺腔体的组合，可支持更多的选配项，如臭氧化DIW、高压DIW、带保护膜的分划板清洗和白骨化清洗。同样支持显影和刻蚀应用。单晶片和Cassette机械手自动上下片可选择。

设备特点：

支持对角线21"、15"×15"基片和450mm圆片

无损兆声清洗

不同速度的PVA刷子

化学液分布，带回吸阀

旋转甩干，带热氮

双排放口，酸和溶剂独立排放

全自动计算机控制，菜单驱动

触摸屏用户界面

手动上下片，可升级为自动

安全联锁和警报

小占地面积32" D×28"W

选配项：

硅片和蓝宝石片清洗

后CMP晶圆片清洗

带晶圆框架的芯片清洗

FSI清洗

显示平板，ITO涂层显示屏清洗

带图案及无图案掩模板清洗

带保护膜分划版的背面清洗

薄膜结构胶粘剂清洗

光刻胶涂覆、剥离和Piranha去胶

背面多晶去除

显影和其它刻蚀应用