薄膜半导体材料制备系统

真空快速退火炉（RTP）一般都是以红外卤素灯为发热元件，升温速度极快，采用热电偶测温并采用国际领xian的PID控制，具有很高的控温精度，快速退火炉具有真空装置，可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范...

多功能镀膜系统，适用于科学研究，技术开发，占地空间小，适应性强

美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

派瑞林镀膜设备

RE系列反应离子蚀刻系统带有淋浴头式样的气体分配系统及水冷射频压盘，柜体为不锈钢材质。

沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件的工具。

其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。

电子束蒸发镀膜系统

该系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的...

脉冲激光分子束外延系统(PLD MBE)凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。PVD公司是美国主要

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。

适用于高精度大面积表面涂布，平板型或 卷对卷涂布