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真空镀膜及刻蚀设备

 
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金属有机化合物化学气相沉积
  • 品牌: 美国Rocky Mountain
  • 型号:MOCVD
  • 产地:美国
  • ※ 应用方向:氧化物、氮化物、碳化物、二维硫族化合物 等。 ※ MOCVD系统使用固体、液体金属有机源,在不同衬底上沉 积氧化物 氮化物 III-V族和II-VI族膜层。 ※ 1

等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD
  • 品牌: 美国ANRIC
  • 型号:AT-400
  • 产地:美国
  • ※ 广泛应用于光学薄膜、铜互连、MEMS、TSV、高k介质 层、金属栅电极(metal gate)等应用。 ※ 原子级别的薄膜沉积。 ※ 沉积参数高度可控性:厚度、成分和结构。&

脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积系统
价格:面议
  • 品牌: 美国PVD
  • 型号: PLD
  • 产地:美国
  • ※ 适用于沉积多种难以制备的薄膜,如高温超导薄膜、陶瓷 氧化物薄膜、多层金属薄膜等。 ※ 沉积速率高。 ※ 可以精密控制薄膜厚度和成分。 ※ 衬底温度要求低。 

电子束蒸发系统
电子束蒸发系统
价格:面议
  • 品牌: 美国PVD
  • 型号:E-Beam Evaporator System
  • 产地:美国
  • ※ 主要应用于微电子、光电子、攻率器件、声表器件、射频 器件、先进封装(TSV)、MEMS、光学、材料研究等应 用中金属介质薄膜的沉积。 ※ 蒸发源:电子枪、热蒸发电阻或同时配置电子枪和热

磁控溅射系统
磁控溅射系统
价格:面议
  • 品牌: 美国Nano-Master
  • 型号:Sputter System
  • 产地:美国
  • ※ 主要应用于微电子、光电子、攻率器件、声表器件、射频 器件、先进封装(TSV)、MEMS、光学、材料研究等应 用中金属介质薄膜的沉积。 ※ 多靶直流/射频磁控溅射。※ 共焦溅射或垂直溅射

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