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耘科技致力于高端清洗蚀刻设备的研发和生产 拥有强大的研发与软件编写团队 实现完全自主的软硬件售后服务和升级 zui*程度地解决了客户的后顾之优 产品涵盖2”~12”主流湿法工艺以及薄片、大功率器件、高

器简介：应用： ◆各种材质及薄膜应力分析。 ◆ 其他型号：FLX-3300 (适用于12”样片)技术参数：Toho FLX-2320-S薄膜应力计精确测量多种衬底材料、

器简介： 应用： ◆半导体及相关领域。 技术参数： E-Square公司致力于提供专业的电浆（Plasma

器简介：应用： ◆防震 ◆减震技术参数：TMC专注于向工业和科研部门提供专业的防震和减震系统。提供的解决方案涵盖了从用于光学显微镜的防震桌到用于大型扫描电镜或原子力显微镜的主动式减

器简介：应用： ◆蚀刻-半导体-砷化镓等 ◆蚀刻-平板显示 ◆蚀刻-微机电系统 ◆化学气相沉积 ◆去光阻 ◆化学机械研磨技术参数：等离子体处

器简介：应用： ◆半导体、LCD、LED、OEM、太阳能电池等行业。技术参数：辛耘公司致力于为半导体、LCD、LED、OEM和太阳能电池等工业领域提供分子泵维修和全面检修服务。服务涵盖所有主

器简介：应用： ◆尼康(Nikon)和佳能(Canon)光刻机。技术参数：Tanehashi公司致力于向尼康(Nikon)和佳能(Canon)光刻机用户提供性能可靠的光罩盒。其产品适用于开放

#13; 仪器简介： Dark Field检测系统： 用于检测薄膜太阳能电池的边缘缺口、裂纹、坏角、表面杂质、刮痕、翘曲和雾状模糊等参数。 技术参数：

器简介： Xradia高分辨率三维X射线显微镜是zuixin一代处于领导地位的三维X射线显微镜（XRM）解决方案，为无损微米成像而优化。本设备提供无与伦比的亚微米分辨率，即便是对大样品也是如

shio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片（蓝白光，红黄光）研发和生产当中，并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和处理的功能。同时也能对应一些较为特殊材质的芯片如：Ga

PE-1255ATL是被广泛应用于LED芯片研发和大批量生产的一款自动光刻设备 特点： *具有较高的设备稳定性。 *具有较高的生产对应能力和处理速度 每小时可达200WP

X-4系列全自动投影式光刻设备主要运用于大尺寸的LED芯片生产和研发。同时又可以运用于半导体MEMS芯片的新品开发和大批量生产。 特点： *最大限度的提高生产良率。（焦

厂建立于2006年，建有两条独立的产线（铜与非铜）进行12寸晶元再生作业，工艺先进完善, 目前已与亚太地区主要半导体厂家保持长期战略合作，深受好评。 工艺特点：