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1200℃双温区CVD系统价格：面议- 品牌： 中环
- 型号：1200℃双温区CVD系统
- 产地：北辰区
品用途：此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。产品组成：此款CVD系统配置：1.1200度开启式真空管式炉
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1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统价格：面议- 品牌： 中环
- 型号：1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
- 产地：北辰区
品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。 产品组成：CVD系统配置：
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1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统价格：面议- 品牌： 中环
- 型号：1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
- 产地：北辰区
品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。 产品组成：CVD系统配置：1.1200度开启式真空
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