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Allresist
Allresist公司于1992年成立，延续了德国Fotochemische Werke Berlin公司30多年的光刻胶研究工艺，专门从事光刻工艺所需电子化学品的研发、生产和销售，产品包括各种光刻工艺中使用的光学光刻胶、电子束光刻胶以及相关工艺中配套的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等化学试剂。
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- 超高真空和高真空系统
- 分子束外延系统(MBE)
- 脉冲激光沉积系统(PLD)
- 激光分子束外延系统(LMBE)
- 磁控溅射和电子束蒸发系统
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- Raith电子束光刻/聚焦离子束系统
- 紫外光刻机
- 去胶机（微波等离子体系统）
- 极紫外光源与光栅
- 微纳米加工定位技术
- 快速退火炉
- 宽频介电阻抗谱仪
- 薄膜和材料表面的无损检测
- 扫描式激光形貌仪
- 三维表面形貌仪
- 原子力显微镜
- 红外测温仪
- （德国） LUMi
- （德国）Nano analytik
- （瑞士）瑞士Heliotis
- （德国）德国KELLER HCW
- （德国）Allresist
- （德国）Klocke Nanotechnik
- （德国）Novocontrol Technologies
- （德国）德国布鲁克
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仪企号
北京汇德信科技有限公司
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