-
认证会员 第 11 年
南京覃思科技有限公司
认证:工商信息已核实
- 产品分类
- 品牌分类
- ( 捷克)CactuX品牌
- ( 丹麦)DeltaPix
- ( 荷兰)Delmic
- ( 法国)TRAD
- ( 加拿大)KA Imaging
- ( 加拿大)蜻蜓
- ( 美国)美国Tousimis
- ( 瑞士)Safematic
- ( 韩国)LabSpinner
- ( 荷兰)荷兰ASI
- ( 美国)美国PIE
- ( 美国)美国JC Nabity
- ( 英国)英国Quorum
- ( 浦东新区)SurfaceTech
- ( 浦东新区)Maxwell Sensors
- ( 浦东新区)TVIPS
- ( 浦东新区)新天光电
- ( 浦东新区)赛科
- ( 英国)英国DEBEN
- ( 浦东新区)皇家生技/Royal Biotech
- ( 浦东新区)Technoorg
- ( 德国)德国Ditabis
- ( 浦东新区)EM阻剂/EM Resist
- ( 浦东新区)/PIE
-
仪企号
南京覃思科技有限公司
-
电子束曝光系统(纳米图形发生系统)价格:面议- 品牌:美国JC Nabity
- 型号:NPGS
- 产地:美洲 美国
电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。
美国JC Nabity
电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity Lithography Systems























