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美国JC Nabity

 
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电子束曝光系统(纳米图形发生系统)
  • 品牌:美国JC Nabity
  • 型号:NPGS
  • 产地:美洲 美国
  • 电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。

美国JC Nabity

 
美国JC Nabity
电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity Lithography Systems