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TPX3Cam的优势： ● 增强光敏度的硅传感器 ● 波长范围：400 - 1000 nm ● 每一像素同时检测时间（ToA）和强度（ToT） ● 时间分辨率1.6 ns，有效...

ASI公司出品的 LynX系列探测器为混合像素区域探测器，55μm像素间距，适用范围广。在每个512×512像素(262K像素点)中，LynX探测器辨别或测量X射线能量的能力，为X射线探测

多用途等离子处理腔室_TEM & SEM样品清洁及贮存解决方案 通过选配外部附件如：EM-KLEEN远程控制等离子源和/或TEM样品杆适配器，多用途腔室可配置成不同的应用。EM-KLEE...

Tergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪 美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表...

PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实...

美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。 本仪器由一个LCD触摸屏控制器...

在过去的几年中，半导体器件和IC生产等微电子技术已发展到深亚微米阶段及纳米阶段。为了追求晶片更高的运算速度与更高的效能，三十多年来，半导体产业遵循著摩尔定律（Moore’s Law）：每十八个月单一晶...

紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，

韩国LabSpinner公司研发的ExoDiscovery微量外泌体快速分离提纯系统恰好弥补了传统方法的不足。系统采用离心式TFF（切向流过滤）微流控新工艺和专有FAST（流体辅助分离技术）结构的外泌...

紧凑型、模块化和智能化CCU-010 LV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之前和/或

紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，

紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_SP-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模

紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_CT-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理(可

紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用du特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀

UTOSAMDRI-931 Non-Cleanroom系列CPD新一代全自动临界点干燥仪临界点干燥原理之所以称为临界点干燥（又称超临界干燥），因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别

UTOSAMDRI®-815/815B Series A 系列CPD全自动临界点干燥仪临界点干燥原理之所以称为临界点干燥（又称超临界干燥），因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别，