详细介绍
产品特点：
?优异的性价比，低价格却可达到相近于高端膜厚计的测量再现性。
?中文化操作介面，入门简易、沟通无障碍。
?提供完整测量教学、技术支援、点检校正等售后服务。
?采用标准样品验证膜厚精度与再现性，确保追溯体制的完整。
?显微镜聚焦下的微距口径测量。
产品规格：
| 测量规格 | |
| 膜厚范围 | 200nm~20μm |
| 波长范围 | 400nm~780nm |
| 膜厚精度 | ±1nm以内 |
| 重复更现性(2σ) | 0.5nm以内 |
| 选配品 | |
| 样品台尺寸 | 200mm×200mm以内可容制化 |
| 测量口径（10倍物镜时） | Φ20μm、Φ40μm、Φ60μm |
| 电脑设备 | 需支援至少三个USB以上之笔记型或桌上型电脑 |
| 作业系统 | WindowsXP/7（32bit） |
| 测量物镜 | 5倍、10倍、20倍 |
| 软件功能 | |
| 膜质解析 | N：折射率、k：吸光系数 |
| 膜厚测量法 | FFT法、波峰-波谷法、曲线近似法（Fitting） |
应用范围：
半导体晶圆膜、FPD薄膜材料、树脂膜、光阻膜、氧化膜、包装膜、光学镀膜、抗反射膜、透明或半透明膜层
应用范例：
Si基板上99.4nm的SiO2膜
Si基板上1018.2nm的SiO2膜
