真空高温管式炉

设备特点： 1、广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境； 2、该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理； 3、可选用液晶屏触摸界面，详细的界面操作提示，使得...

主要特点 　　1.此款设备提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位置的快升降温。 　　2.纵向多接口真空法兰设计，各...