详细介绍
1. 灵敏度：
低质量数 Li(7): 50 Mcps/ppm；
中质量数 Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高质量数 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根据用户特殊需求，如激光、核工业、半导体材料等应用，可提供超高灵敏度功能
2. 检测限：
低质量数 Be(9): 0.5 ppt；
中质量数 In(115): 0.1 ppt
高质量数 Bi(209): 0.1 ppt
3. 氧化物干扰: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4. 双电荷干扰: Ce2+/Ce+:3.0 %
5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 质谱范围：2 - 260 amu；
7 丰度灵敏度
低质量端: 5 x 10-7
高质量端: 1 x 10-7
主要特点：
尺寸最小的ICP-MS
灵敏度最高的碰撞池-第三代ORS3
纯 He 气碰撞池：只用He气就可以消除所有干扰。
最耐高盐的ICP-MS: HMI技术（TDS>3%）
先进的ICP离子源技术：的数字控制式谐频ICP发生器
有机溶剂进样不熄火！
分析速度最快：ISIS-DS技术
容易维护和清洗
强的色谱联机功能：真正的一体化
功能最多强的软件：MassHunter系统，实现实时QA/QC
偏移标示，自动化控制等
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