纯硅膜

薄区非晶膜厚5纳米左右（特殊要求厚度可定制），特点是耐受不同组分等离子体长时间清洗，可彻底清除电镜样品表面碳污染。可保证纳米/原子尺度(S)TEM-EDS/EELS面分布图长时采集过程中无明显积碳现象...

是在膜上制成边缘有层次的微米透孔，可以制作不同孔径，可消除支持膜背底对图像衬度与成分分析的影响。特点是耐受不同组分等离子体长时间清洗，可彻底清除电镜样品表面碳污染。适用于纳米线、纳米片、纳米团聚物等纳...