FIB-SEM DualBeam

用于快速原型设计和半导体电路调试和维修的电路编辑技术。

实现生产条件下高达 300 mm 的全半导体晶片的电气故障分析。

用于半导体故障分析和服务实验室的静态光学故障隔离解决方案。

聚焦离子束扫描电子显微镜，用于超高分辨率、高质量样品制备和 3D 表征。

具有延长运行时间和增强自动化的冷冻电镜样品制备工具。

具有多个离子种类、适用于 3D EM 和 TEM 样品制备的等离子聚焦离子束扫描电子显微镜检查。

用于 TEM 样品制备（包括 3D 表征、横截面成像和微加工）的等离子体聚焦离子束扫描电子显微镜。

用于 TEM 和 STEM 成像或原子探针断层扫描的样品制备。产品可实现先进的自动化操作，简单易用，并且能够进行高质量的亚表面 3D 表征。

用于半导体工业的 FIB-SEM TEM 样品制备，可实现全晶圆分析。

用于自动化、高通量半导体晶片分析的 TEM 分析样品制备工作。