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等离子体增强化学气相沉积系统
- 品牌：河南诺巴迪
- 型号： NBD-PECVD1200-80TID2ZY
- 产地：郑州
- 供应商报价： 面议
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河南诺巴迪材料科技有限公司
更新时间：2024-04-24 13:10:54 -
企业性质生产商
入驻年限第5年
营业执照已审核
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- 标签： 管式炉，箱式炉，马弗炉，气氛炉，旋转炉，真空炉，真空箱式炉
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- 详细介绍
设备简介：
该产品是由固态等离子源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，采用集中总线控制技术的诺巴迪操作软件。适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料。
配置详情
1. 清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染；
2. 上开启式结构，方便观察试样；
3. 产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示；
4. 设备一体化程度高；
5. 稳定的射频电源，均匀的温度分布，提高成膜质量；
产品型号
NBD-PECVD1200-80ITD2ZY
电气规格
AC220V 4KW
Max温度
1200 ℃
连续温度
1150℃
加热速率
≤ 20 ℃/min
射频电源
300或500W（可根据需求自选） 13.56MHz
炉管尺寸
Φ80*1200mm
沉积示意图 
如图所示：此为该设备沉积过程中的示意图
控制系统
1.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，实时加热功率显示，非线性式样温度修正；实验报告自主生成，实验数据无限次导出。
2.实验过程更加直观，操作更加便捷；
3.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。
温度精度
+/- 1 ℃
加热元件
Mo掺杂的Fe-Cr-Al合金
密封系统
真空度：≤10Pa（机械泵-油泵、干泵可选）
压力测量与监控
采用数显真空计，可使设备真空度更加直观，实验结果更加准确。
供气系统
采用两路质量流量计精确控制气体流速，与设备集成为一体；（可扩展至多路）
净重
360KG
设备使用注意事项
1. 设备炉膛温度≥300℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害；
2. 设备使用时，炉管内压力表显示压力不得超过0.15MPa，以防止压力过大造成设备损坏；
3. 真空下使用时，设备使用温度不得超过800℃；
4. 供气钢瓶内部气压较高，向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在选购试验用小压力减压阀，减压阀量程为0.01MPa-0.15MPa,使用时会更加精确安全；
5.当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压 相当，保持在常压状态；
6.高纯石英管的长时间使用温度≦1100℃；
7.加热的实验时，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若JD压力表读数大于0.15MPa，必须立刻打开排气端阀门，以防意外发生（如炉 管破裂，法兰飞出等）。
服务支持
1年质保，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和密封圈等）；
24小时服务热线：。
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- 产品优势
- 该产品具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统，动态衬底温控，控制真空系统，采用集中现场控制总线技术的Nobody控制软件，以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1200℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积，同时可实现TEOS源沉积，SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料，尤其适合于有机材料上保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
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