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BS/JEBG/EBG 系列电子枪

联系方式:廖敬强0755-81776600

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详细介绍

用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。

 

产品规格:

型号

最大输出功率

偏转角度

灯丝

电子束扫描

坩埚

氧化物

金属

BS-60060DEBS

6.4kW

270°

U字形
(长寿命)

快速
扫描

无*2

BS-60050EBS

10kW

270°

无*2



BS-60040VDGN

10kW

270°

无*2



BS-60030DGN

10kW

270°

无*2



EBG-102UB6S

10kW

180°

漩涡形

12cc×6 个


EBG-102UB4S

10kW

180°

12cc×4 个



JEBG-102UH0

10kW

180°

无*2



BS-60210DEM
+BS-60140H4H

10kW

270°

直线线圈形
(长寿命)

中速
扫描

40cc×4 个

BS-60210DEM
+BS-60150H6H

10kW

270°

40cc×6 个



EBG-203UB6S

20kW*1

270°

漩涡形

快速
扫描

12cc×6 个*3

EBG-203UB4H

20kW*1

270°

12cc×2 个 28cc
(半球)×2 个



JEBG-203UA0

20kW*1

270°

无*4



JEBG-303UA

30kW*1

°






 

· *1: EB电源最大输出功率为16kW,实际能使用的最大输出功率为16kW。

· *2: 可以定制 ⇒12cc×4 或6个 等

· *3: 坩堝小凹孔的形状可以改变 ⇒ 28cc(φ45×20h)×6个, 51cc(φ60×20h)×3个等。

· *4: 可以定制 ⇒40cc(φ50×25h)×4或6个, 114cc(φ75×30h)×1个等

· *5: 可以定制 ⇒114cc(φ75×30h)×1个, φ34×20h×3个小凹穴(同时蒸镀用), φ70×30h×4个 等

 

产品特点:

· 用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。

· 电子束蒸镀法的特征

· 用电子束直接照射镀膜材料进行加热,因此热效率高,能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。

      。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热,因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。
      *可能需要使用坩埚内衬。

· 能迅速控制输出,因而能精确地控制膜厚。

· 与溅射法及 CVD 法相比,能快速镀膜是一大特征。
对形成1µm 以上的厚膜也很有效。

· 日本电子制造的电子枪/电源的特征

 

· [ 氧化物 ]
电子束垂直照射镀膜材料,束斑近似圆形,具有能量密度高的特征。此外,由于标准配备了快速扫描功能,非常适合蒸镀融点高、热传导性低的氧化物及升华性材料,能获得良好的熔痕,大面积的镀膜区域上膜厚分布均匀,重现性好。
 

[ 金属 ]
坩埚的选择范围很大,能进行多种、大量、高速率的蒸镀,还有用来YZ成膜时温度上升的剥离工艺用电子枪。
 

[ 合金复合膜 ]
往临近的两个或三个坩埚内充填不同的材料,使用专用的扫描控制器进行双源或三源蒸发,可以形成合金膜和复合膜。


产品优势
日本JEOL BS/JEBG/EBG 系列电子枪,用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。
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